发明名称 微影器与使用乾净空气流动以减少污染物之制造器件方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.08.11
申请号 TW095121795 申请日期 2006.06.16
申请人 ASML公司 发明人 柏纳德斯 安东尼斯 约翰斯 路堤库斯;比斯 路杰洛斯 芭崔;威尔汉 约瑟夫斯 柏克斯;马可 寇特 史帝芬格;希斯 贞 哈瑞克
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种微影器,其包括:一支撑一基板之基板平台;一基板装卸装置,其相对于该基板平台移动该基板,该基板装卸装置适于在曝光之前及之后将基板加载至该基板平台上及自该基板平台卸载基板,及一乾净气体供应系统,其将一乾净气体供应至至少一个置放一基板之位置处,其中该乾净气体供应系统系以可拆方式安装,其中该乾净气体供应系统系安装于该基板装卸装置之一下侧上且将乾净气体引导至一该基板平台上之置放该基板的位置。如请求项1之微影器,其中该乾净气体供应系统与该基板装卸装置一起移动。如请求项1之微影器,其中该基板装卸装置包括一加载器及一卸载器平台中之至少一者。如请求项3之微影器,其中该乾净气体供应系统系安装于该基板装卸装置之一上侧上且将乾净气体引导至一该加载器及卸载器平台中之该至少一者上之置放该基板的位置。如请求项3之微影器,其进一步包括一可以支撑方式将该乾净气体供应系统安装于该基板装卸装置上之支撑件。如请求项5之微影器,其中该支撑件以可支撑方式将该乾净气体供应系统安装于该加载器及该卸载器平台中之该至少一者上。如请求项1之微影器,其中该乾净气体供应系统包括:一过滤器单元,其包括一气体入口及一乾净气体出口,其中该过滤器单元系以可拆方式安装于该基板装卸装置上。如请求项7之微影器,其中该过滤器单元系一微粒过滤器单元及一化学过滤器单元中之至少一者。如请求项1之微影器,其中该基板装卸装置可沿一大致垂直于一该基板设置位置处之平面之方向移动。如请求项3之微影器,其中该基板装卸装置包括:一机械手臂,其用于如下作业中之至少一者:分别将该基板设置于该加载器及该卸载器平台中之至少一者上或自该加载器及该卸载器平台中之该至少一者中移除该基板。如请求项10之微影器,其进一步包括:一设置于该加载器及该卸载器平台中之该至少一者与该机械手臂之间的阀,该阀有选择地允许该机械手臂接近至该加载器及该卸载器平台中该至少一者。如请求项11之微影器,其进一步包括:一设置于该加载器及该卸载器平台中之该至少一者与该阀之间的密封,该密封在一其中设置有该基板之环境内实施密封以与一外部环境隔离。如请求项12之微影器,其中乾净气体供应系统将气体供应至其中设置该基板之该环境。如请求项13之微影器,其中该密封允许乾净气体自其中设置该基板之该环境中泄漏而防止来自该外部环境之气体进入其中设置该基板之该环境。如请求项14之微影器,其中该密封系藉由相对于一外部环境在该环境内形成一过压而形成。如请求项14之微影器,其中该密封包括一间隙,该间隙经确定尺寸以使其中设置该基板之该环境中之该气体在该间隙处具有一层流。如请求项12之微影器,其中该密封之该位置相对于该基板平台移动。如请求项17之微影器,其中在该基板平台之一扫描移动期间,该移动之密封系藉由设置于该基板平台上的该基板之一前边缘与该乾净气体供应系统所形成。如请求项12之微影器,其中该密封包括一形成于将该乾净气体供应系统支撑于该基板装卸装置上之该支撑件内之间隙。如请求项1之微影器,其中该乾净气体供应系统包括以下器件中之至少一者:一用于过滤一气体之过滤器单元、一用于热调节该气体之换热器、一用于决定该气体之一流量之风扇单元、及一用于以化学方式过滤该气体之化学过滤器。如请求项20之微影器,其中该换热器、该风扇单元及该化学过滤器中之至少一者位于相对于该过滤器单元之遥远处。如请求项21之微影器,其中该换热器、该风扇单元及该化学过滤器中之该至少一者位于该微影器内。如请求项1之微影器,其中该设备进一步包括:一调节一辐射光束之照明系统;一调变该辐射光束之图案化器件;及一将该调变之光束投射于该基板上之一目标部分上之投影系统。一种微影器,其包括:一未曝光基板;及一将一乾净气体供应至该未曝光基板之乾净气体供应系统,其中该乾净气体供应系统经配置于一移动之支撑件上,且经配置以将一乾净气体供应至至少一个置放该未曝光基板之位置,一基板平台,其经构造以支撑至少一个该未曝光基板或至少一个其他基板,及一基板装卸装置,其相对于该基板平台移动至少一个该未曝光基板或至少一个其他基板,该基板装卸装置适于在曝光之前及之后将至少一个该未曝光基板或至少一个其他基板加载至该基板平台上,及自该基板平台卸载至少一该未曝光基板或至少一个其他基板,其中该基板装卸装置包括一加载器及卸载器平台中之至少一者,其中该乾净气体供应系统系设置于该卸载器平台以下,以在扫描及曝光该基板平台上之该未曝光基板中之至少一者期间将该乾净气体供应至该未曝光基板。如请求项24之微影器,其中该乾净气体供应系统系设置于该加载器平台上方以在热调节该未曝光基板期间将该乾净气体供应至该未曝光基板。如请求项24之微影器,其中该乾净气体供应系统包括用于在该基板周围提供一乾净气体环境的一过滤器及一阀。如请求项26之微影器,其中该阀经构造以允许将一气体自安装于该加载器平台上之该乾净气体供应系统引导至设置于该卸载器平台上的至少一个该未曝光基板或至少一个其他基板。如请求项27之微影器,其中该阀包括一该气体穿过其中以绕过该加载器平台之凹陷,以将该气体引导至该卸载器平台。一种器件制造方法,其包括:调节一辐射光束;调变该辐射光束;将一基板支撑于一基板平台上;将该调变之辐射光束投射至该基板之一目标部分上,使用一基板装卸装置相对于该基板平台移动该基板,其中包括在曝光之前及之后将基板加载至该基板平台上及自该基板平台卸载基板;及将一乾净气体供应供应至至少一个置放该等基板中之一者之位置,其中该乾净气体系藉由一可拆安装式乾净气体系统所供应,其中该乾净气体供应系统系安装于该基板装卸装置之一下侧上且将乾净气体引导至一该基板平台上之置放该基板的位置。一种微影器,包含:一支撑一基板之基板平台;一基板装卸装置,其相对于该基板平台移动该基板,该基板装卸装置适于在曝光之前及之后将基板加载至该基板平台上及自该基板平台卸载基板,及一乾净气体供应系统,其将一乾净气体供应至至少一个置放一基板之位置处,其中该乾净气体供应系统系以可拆方式安装,其中该基板装卸装置包括一加载器及一卸载器平台中之至少一者,其中该基板装卸装置包括一机械手臂,其用于如下作业中之至少一者:分别将该基板设置于该加载器及该卸载器平台中之至少一者上或自该加载器及该卸载器平台中之该至少一者中移除该基板,其中该微影器进一步包含一设置于该加载器及该卸载器平台中之该至少一者与该机械手臂之间的阀,当该阀在一开启位置时,该阀允许该机械手臂接近至该加载器及该卸载器平台中该至少一者,当该阀在一关闭位置时,该阀允许该加载器及该卸载器平台中该至少一者对该机械手臂关闭。一种器件制造方法,该方法包括:将一基板支撑在一基板平台上;利用一基板装卸装置相对于该基板平台移动该基板,包括在曝光之前及之后将基板加载至该基板平台上及自该基板平台卸载基板,及将一乾净气体供应至至少一个置放一基板之位置处,其中该乾净气体系藉以可拆方式安装的一乾净气体系统供应,其中该基板装卸装置包括一加载器及一卸载器平台中之至少一者,其中该基板装卸装置包括一机械手臂,其用于如下作业中之至少一者:分别将该基板设置于该加载器及该卸载器平台中之至少一者上或自该加载器及该卸载器平台中之该至少一者中移除该基板,其中该微影器进一步包含一设置于该加载器及该卸载器平台中之该至少一者与该机械手臂之间的阀,当该阀在一开启位置时,该阀允许该机械手臂接近至该加载器及该卸载器平台中该至少一者,当该阀在一关闭位置时,该阀允许该加载器及该卸载器平台中该至少一者对该机械手臂关闭。一种微影器,包含:一未曝光基板;一乾净气体供应系统,其供应一乾净气体至该未曝光基板,其中该乾净气体供应系统经建构以配置于一移动之支撑件上,且经建构以将一乾净气体供应至至少一个置放该未曝光基板之位置,一基板平台,其经构造以支撑至少一个该未曝光基板或至少一个其他基板,及一基板装卸装置,其相对于该基板平台移动至少一个该未曝光基板或至少一个其他基板,该基板装卸装置适于在曝光之前及之后将至少一个该未曝光基板或至少一个其他基板加载至该基板平台上,及自该基板平台卸载至少一该未曝光基板或至少一个其他基板,其中该基板装卸装置包括一加载器及卸载器平台中之至少一者,其中该乾净气体供应系统包含提供围绕该基板的一乾净气体环境的一过滤器及一阀,其中该阀包括一该气体穿过其中以绕过该加载器平台之凹陷,以将该气体引导至该卸载器平台,该凹陷形成在该阀与该加载器平台之间的一气体通道。
地址 荷兰
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