| 主权项 |
一种抗吸附之聚光膜，包含：一水平基板，由透光性材料制成；及多数第一与第二聚光柱，由透光性材料制成，左右相邻且前后延伸地突设于该基板顶面，第一聚光柱高度会较第二聚光柱高0.1 μ m以上，且部分第一聚光柱高度会沿其长度方向高低起伏，而最高点与最低点之高度差大于1 μ m，且二相邻之突起高点间的间距大于50 μ m。依据申请专利范围第1项所述之抗吸附之聚光膜，其中，二间隔相邻之第一聚光柱间的第二聚光柱数量分布是呈不规则状、规则状或伪随机状。依据申请专利范围第1或2项所述之抗吸附之聚光膜，其中，该等聚光柱是呈棱柱状或分别自基板往上弧凸状。依据申请专利范围第3项所述之抗吸附之聚光膜，其中，该等第一聚光柱是由前往后地左右弯曲延伸。依据申请专利范围第3项所述之抗吸附之聚光膜，其中，该等第二聚光柱是由前往后地左右弯曲延伸。依据申请专利范围第1项所述之抗吸附之聚光膜，其中，该等第一聚光柱之高低起伏变化为规则状、非规则状，或伪随机状。依据申请专利范围第1项所述之抗吸附之聚光膜，其中，第一聚光柱之二相邻突起高点间的间距是大于500 μ m。依据申请专利范围第7项所述之抗吸附之聚光膜，其中，第一聚光柱之二相邻突起高点间的间距是大于1200 μ m。依据申请专利范围第1项所述之抗吸附之聚光膜，其中，第二聚光柱之顶峰是呈等高状。 |
