| 主权项 |
一种聚烯烃组合物，其含有：(A)至少80重量百分比(wt%)之多相丙烯共聚物，其包含：至少75至96 wt%之丙烯无规共聚物基质相，该丙烯无规共聚物基质相包含至多10 wt%之乙烯及/或至少一种C4-C8α-烯烃，以及至多25 wt%之分散相，该分散相包含具20至80 wt%之烯烃共单体之弹性体丙烯共聚物；(B)聚合物成核剂；及(C)至多20 wt%之低密度聚乙烯，该低密度聚乙烯之密度为900至940公斤/立方公尺(kg/m3)。如申请专利范围第1项之聚烯烃组合物，其中该低密度聚乙烯为LDPE。如申请专利范围第1及2项中任一项之聚烯烃组合物，其中该聚合物成核剂系选自乙烯基环烷聚合物及乙烯基烷聚合物。如申请专利范围第1项之聚烯烃组合物，其中该聚合物成核剂之含量，以多相丙烯共聚物之重量为基准计，为15至1000百万分率(ppm)(以重量计)。如申请专利范围第1项之聚烯烃组合物，其中该多相丙烯共聚物为改质触媒存在下所产生之反应器制造多相丙烯共聚物，其中聚合具有下式之乙烯系化合物以取得该改质触媒：b>CH/b>2b>=CH-CHR/b>1b>R/b>2其中R1及R2与其所连接之碳原子共同形成可选择取代之饱和或不饱和或芳香族环，或者稠合环系统，其中该环或稠合环部分含有4至20个碳原子，较佳为该环或稠合环以5至12员饱和或不饱和或芳香族环或者稠合环系统；或者R1及R2各自独立地表示直链或分枝之C4-C30烷烃、C4-C20环烷或C4-C20芳香族环于触媒存在下，以该乙烯系化合物对该触媒之重量比为3或高于3之比例，聚合至未反应之乙烯系化合物之浓度低于约0.5 wt%。如申请专利范围第1项之聚烯烃组合物，其之霞雾度值，当用具有厚度1毫米(mm)之射出成形试片以如说明书所述测定时，为低于80%。如申请专利范围第1项之聚烯烃组合物，其中该多相丙烯共聚物之基质相至少包含(i)丙烯均聚物或丙烯无规共聚物成分，及(ii)丙烯无规共聚物成分。如申请专利范围第7项之聚烯烃组合物，其中该成分(i)之共单体含量低于该成分(ii)之共单体含量。如申请专利范围第1项之聚烯烃组合物，其中该聚烯烃组合物之霞雾度具有下列关系：b>霞雾度/b>(1 mm厚度)≦88．e(-0.033X)%其中，X=在最终组合物中低密度聚乙烯之含量，以重量百分比计。如申请专利范围第1项之聚烯烃组合物，其中该烯烃共单体为乙烯及/或C4-C8α-烯烃。一种制备申请专利范围第1至10项中任一项之聚烯烃组合物之方法，其包含将申请专利范围第1项之成分(A)及(B)予以原位掺合，并将所得到之产物(A)及(B)与成分(C)以机械方式掺合。一种改良包含聚合物成核剂之多相丙烯共聚物之霞雾度值及/或耐冲击性质之方法，其包含将多相丙烯共聚物与低密度聚乙烯混合。一种低密度聚乙烯之用途，其系用于改良含有聚合物成核剂之多相丙烯共聚物之霞雾度值及/或耐冲击性质。 |
