| 主权项 |
一种氧化方法，其于可形成真空之处理容器内导入氢及氧，使两种气体燃烧产生水蒸汽，藉由该水蒸汽氧化处理被处理体表面，其特征在于：将上述处理容器内之制程压力设为2000 Pa(15 Torr)以上10130 Pa(76 Torr)以下。如请求项1之氧化方法，其中上述氧化处理之制程温度为600~1000℃之范围内。如请求项1之氧化方法，其中上述氧化处理之制程温度为800~850℃之范围内。如请求项1至3中任一项之氧化方法，其中上述氢及氧之全部气体流量为1升/min以下。如请求项1至3中任一项之氧化方法，其中氢流量相对于上述氢及氧之全部气体流量之流量比设为10~40%之范围内。如请求项4之氧化方法，其中氢流量相对于上述氢及氧之全部气体流量之流量比设为10~40%之范围内。如请求项1至3中任一项之氧化方法，其中上述处理容器成型为纵长形，可将上述被处理体一次收容复数片至该处理容器内，进行热处理。如请求项4之氧化方法，其中上述处理容器成型为纵长形，可将上述被处理体一次收容复数片至该处理容器内，进行热处理。如请求项5之氧化方法，其中上述处理容器成型为纵长形，可将上述被处理体一次收容复数片至该处理容器内，进行热处理。如请求项6项之氧化方法，其中上述处理容器成型为纵长形，可将上述被处理体一次收容复数片至该处理容器内，进行热处理。 |
