| 主权项 |
一种处理系统，其特征为，系具备有：将被处理体收容于处理空间内之处理容器；和产生特定之温度的处理流体之处理流体产生部；和被连结于前述处理流体产生部，而将从该处理流体产生部所供给之前述处理流体作导引之主流路；和在前述主流路之下流侧，隔着切换阀而被配置，并将前述处理流体导引至前述处理容器内，将该处理流体供给至该处理容器内之前述处理空间内的处理流体供给流路；和在前述主流路之下流侧，隔着前述切换阀而被配置，并将不被导引至前述处理流体供给流路中之处理流体，以使其绕过前述处理空间的方式而作导引之处理流体旁通流路，前述主流路中，系设置有用以对流动于该主流路内之前述处理流体的流量作调节之流量调节机构，前述处理流体旁通流路，系具备有用以对流动于该处理流体旁通流路内之处理流体的温度进行调节之温度调节流路。如申请专利范围第1项所记载之处理系统，其中，系更进而具备有：排出流路，系将从前述处理容器内之前述处理空间所排出之前述处理流体，和被导引至前述处理流体旁通流路中而绕过该处理空间并通过该处理容器内的前述处理流体排出，在前述排出流路中，系设置有用以对流动于该排出流路内之处理流体的流量作调节之流量调节机构。如申请专利范围第1项所记载之处理系统，其中，使前述温度调节流路，与前述处理容器作热性接触。如申请专利范围第1项所记载之处理系统，其中，前述处理流体，系为水蒸气。如申请专利范围第1项所记载之处理系统，其中，前述处理流体旁通流路，系以使不被导引至前述处理流体供给流路内之处理流体，绕过前述处理空间且通过前述处理容器内的方式，来进行导引。一种处理方法，系为将特定之温度的处理流体供给至处理容器内之处理空间中，而对被处理体作处理之处理方法，其特征为：在将流量调节后之特定温度的前述处理流体供给至前述处理容器内之前述处理空间中的状态，和使流量调节后之特定温度的前述处理流体以在前述处理容器内而绕过前述处理空间的方式而导引的状态间，作选择性的切换，将从前述处理容器内之前述处理空间中所排出之处理流体，和被以在前述处理容器内而绕过前述处理空间的方式而被导引的处理流体，通过共通之流量调节机构而排出，被以在前述处理容器内而绕过前述处理空间的方式而被导引的处理流体，系在被作温度调节之后，通过前述共通之流量调节机构而排出。如申请专利范围第6项所记载之处理方法，其中，前述处理流体，系为水蒸气。如申请专利范围第6项所记载之处理方法，其中，当以在前述处理容器内而绕过前述处理空间的方式而对前述处理流体作导引时，系以使其绕过前述处理空间，且通过前述处理容器内的方式而作导引。一种记录媒体，系为储存有用以在电脑中实行处理方法之电脑程式的记录媒体，该处理方法，系为将特定之温度的处理流体供给至处理容器内之处理空间中，而对被处理体作处理之处理方法，其特征为：在将流量调节后之特定温度的前述处理流体供给至前述处理容器内之前述处理空间中的状态，和使流量调节后之特定温度的前述处理流体以在前述处理容器内而绕过前述处理空间的方式而导引的状态间，作选择性的切换，将从前述处理容器内之前述处理空间中所排出之处理流体，和被以在前述处理容器内而绕过前述处理空间的方式而被导引的处理流体，通过共通之流量调节机构而排出，被以在前述处理容器内而绕过前述处理空间的方式而被导引的处理流体，系在被作温度调节之后，通过前述共通之流量调节机构而排出。 |
