| 主权项 |
一种低反射膜，其特征在于，包括：一硬涂层，藉由在透明基膜上部涂布含有紫外线固化反应树脂或热固化反应树脂的硬涂料以将上述硬涂层形成在上述透明基膜上部；以及一多孔层，藉由在硬涂层上部涂布含有上述硬涂料及可溶性物质的涂料以形成在上述硬涂层上部。如申请专利范围第1项所述的低反射膜，其中上述多孔层的孔隙率为10~50%范围之内。如申请专利范围第1项所述的低反射膜，其中上述多孔层的折射率小于上述硬涂层的折射率，且其折射率为1.25~1.45范围之内，反射率为2%以下。如申请专利范围第1项所述的低反射膜，其中上述硬涂层的表面硬度为2H以上。如申请专利范围第1项所述的低反射膜，其中上述多孔层的空隙的尺寸为10~70nm范围之内。如申请专利范围第1项所述的低反射膜，其中上述多孔层藉由使用溶剂将全部或一部分上述可溶性物质溶解来形成，上述可溶性物质的含量为，相对于100重量份的包含上述硬涂料及上述可溶性物质的涂料，含有10~50重量份。一种低反射膜的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：藉由在透明基膜的至少一面上涂布含有紫外线固化反应树脂或热固化反应树脂的硬涂料以形成一硬涂层；藉由在上述硬涂层上部涂布含有上述硬涂料及可溶性物质的涂料，从而形成多孔层用涂层；使用溶剂将全部或一部分上述可溶性物质溶解，从而形成多孔层。如申请专利范围第7项所述低反射膜的制造方法，其中上述可溶性物质为，在溶解于水、醇类、酮类溶剂中至少一种溶剂的有机物或无机物中选择的至少一种。如申请专利范围第8项所述低反射膜的制造方法，其中根据上述可溶性物质的含量变化，调节光学特性。如申请专利范围第7项所述低反射膜的制造方法，其中上述可溶性物质的含量为，相对于100重量份的包含上述硬涂料及上述可溶性物质的涂料，含有10~50重量份。 |
