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Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden einer Schicht auf einem in einer Prozesskammer (1) von einem Suszeptor (2) getragenen Substrat (3) mit Hilfe eines durch ein Gaseinlassorgan (4) in die Prozesskammer eingebrachten Prozessgases, wobei das Gaseinlassorgan (4) ein von einer Zuleitung (5) gespeistes Gasverteilvolumen (6), eine darin vor der Mündung (5') einer Zuleitung (5) für ein in das Gasverteilvolumen (6) bringbaren Gases angeordnete Prallplattenanordnung und eine Vielzahl von in die Prozesskammer mündende Gasaustrittsöffnungen (7) aufweist. Um das Gaseinlassorgan derart weiterzubilden, dass die laterale Schichthomogenität der abgeschiedenen Schichten verbessert wird, wird vorgeschlagen, dass die Prallplattenanordnung aus mehreren, sowohl in Einströmrichtung des Gases als auch quer dazu versetzt liegenden Prallplatten (9, 10, 11, 12) besteht.
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