发明名称 |
用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金,溅射靶材及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金,所述合金具有优异的饱和磁通密度、非结晶性和耐腐蚀性,并且提供一种整体上具有这种优异的合金组成但是具有高的PTF值的溅射靶材,该溅射靶材可以有效地用于磁控溅射。这种合金包含以原子%计的下列各项:Fe:10至45%;Ni:1至25%;Zr、Hf、Nb、Ta和B中的一种或多种:Zr+Hf+Nb+Ta+B/2之和为5至10%,其中B为0至7%的量;以及Al和Cr中的一种或多种:Al+Cr之和为0至5%;以及作为余量的Co和不可避免的杂质:37%以上,并且所述合金以原子比计满足下列各项:Fe/(Co+Fe+Ni):0.10至0.50;以及Ni/(Co+Fe+Ni):0.01至0.25。 |
申请公布号 |
CN102149836A |
申请公布日期 |
2011.08.10 |
申请号 |
CN200980135768.7 |
申请日期 |
2009.07.14 |
申请人 |
山阳特殊制钢株式会社 |
发明人 |
泽田俊之;岸田敦;长谷川浩之;柳谷彰彦 |
分类号 |
C22C19/07(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I;B22F3/14(2006.01)I;C22C1/04(2006.01)I;C22C38/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I |
主分类号 |
C22C19/07(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
程金山 |
主权项 |
一种用于在垂直磁记录介质中的软磁膜层的合金,所述合金包含以原子%计的下列各项:Fe:10至45%;Ni:1至25%;Zr、Hf、Nb、Ta和B中的一种或多种:Zr+Hf+Nb+Ta+B/2之和为5至10%,其中B为0至7%的量;以及Al和Cr中的一种或多种:Al+Cr之和为0至5%;以及作为余量的Co和不可避免的杂质:37%以上,并且所述合金以原子比计满足下列各项:Fe/(Co+Fe+Ni):0.10至0.50;以及Ni/(Co+Fe+Ni):0.01至0.25。 |
地址 |
日本兵库县 |