发明名称 |
触摸屏及触摸屏用薄膜材料的制造方法 |
摘要 |
本发明提供触摸屏,它是具有将分别于单侧表面配设电极的第一和第二平面状构件,在使前述各电极相向的状态下以一定间隔相对配置,在前述第一平面状构件的另一侧表面叠层偏振片而成的结构的内置型触摸屏,其中前述第一和第二平面状构件的至少一方由含有硅氧烷交联型丙烯酸硅氧烷树脂的薄膜材料构成。其中,前述薄膜材料,当其厚度在0.1mm以上、0.4mm以下范围时,即使在120℃、1,000小时加热处理前后,波长400nm可见光透过率的维持率可以在96%以上。 |
申请公布号 |
CN101057210B |
申请公布日期 |
2011.08.10 |
申请号 |
CN200580038488.6 |
申请日期 |
2005.09.07 |
申请人 |
郡是株式会社 |
发明人 |
佐佐木邦晃;连山君奉;古川修二;佐藤博十志;山田勉;塚本启司;山本政则;坂本拓见;水元英诏 |
分类号 |
G06F3/041(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I |
主分类号 |
G06F3/041(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
孙秀武;李炳爱 |
主权项 |
一种触摸屏,它是内置型触摸屏,具有将于单侧表面分别配设电极的第一和第二平面状构件,在使前述各电极相向的状态下以一定间隔相对配置,在前述第一平面状构件的另一侧表面叠层偏振片的结构,其中前述第一和第二平面状构件的至少一方由含有硅氧烷交联型丙烯酸硅氧烷树脂的薄膜材料构成,前述薄膜材料,当其厚度在0.1mm以上且0.4mm以下范围时,具有即使在120℃、150小时加热处理后,波长400nm可见光透过率相对于加热前初期值保持96%以上的特性。 |
地址 |
日本京都府 |