发明名称 |
一种空间用抗电离辐照有源光纤 |
摘要 |
本发明涉及一种空间用抗电离辐照有源光纤,包括有源纤芯、内包层、外包层和涂覆层,有源纤芯的材料中包含有源活性离子和共掺杂剂的二氧化硅,其中有源活性离子为原子序数为57~71的稀土元素的卤化物或氧化物的一种或者多种,共掺杂剂为锗、磷、铝、氟的化合物的一种或多种,所述有源纤芯的材料中掺杂有铈的化合物,其掺杂浓度为2000~10000ppm,内包层的材料中也可掺杂有铈或氟,铈离子掺杂浓度为0~8000ppm,氟离子掺杂浓度为0~1000ppm。本发明所述的抗电离辐照有源光纤在纤芯中掺杂铈,经过试验验证可以极大提高有源光纤的抗辐照特性,解决了当前有源光纤在辐照环境中使用受限问题。 |
申请公布号 |
CN102147496A |
申请公布日期 |
2011.08.10 |
申请号 |
CN201110071167.3 |
申请日期 |
2011.03.23 |
申请人 |
华中科技大学 |
发明人 |
戴能利;盛于邦;李海清;李进延;彭景刚;蒋作文;杨旅云;陈瑰;张泽学 |
分类号 |
G02B6/036(2006.01)I;G02B6/02(2006.01)I |
主分类号 |
G02B6/036(2006.01)I |
代理机构 |
华中科技大学专利中心 42201 |
代理人 |
朱仁玲 |
主权项 |
一种空间用抗电离辐照有源光纤,包括有源纤芯、内包层、外包层和涂覆层,有源纤芯的材料中包含有源活性离子和共掺杂剂的二氧化硅,其中有源活性离子为原子序数为57~71的稀土元素的卤化物或氧化物的一种或者多种,共掺杂剂为锗的化合物、磷的化合物、铝的化合物、氟的化合物其中的一种或多种,其特征在于,所述有源纤芯的材料中掺杂有铈的化合物。 |
地址 |
湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |