发明名称 |
用于提高在基底上所加工材料均匀性的沉积装置和使用该装置的方法 |
摘要 |
按照示范实施例提供在基底上均匀生成材料的沉积装置。沉积装置包括能量源、面向基底、相对基底有间隔关系的电极、和连接在电极的界面结构。界面结构被配置成从能量源电气连接能量通过并围绕界面结构到电极,用于当从能量源向界面结构供给能量时在电极和基底的预定区域之间形成基本均匀的电场。 |
申请公布号 |
CN102150237A |
申请公布日期 |
2011.08.10 |
申请号 |
CN200980135787.X |
申请日期 |
2009.07.13 |
申请人 |
联合太阳能奥沃尼克有限责任公司 |
发明人 |
Y·李;S·琼斯;V·肯尼拉;A·库马;J·德勒;K·尤南 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
赵华伟 |
主权项 |
用于在基底上均匀加工处理材料的沉积装置,该沉积装置包括:能量源;相对基底有面向、间隔关系的电极;和连接到电极的界面结构,界面结构被配置成从能量源电气连接能量通过并围绕界面结构到电极,用于当从能量源给界面结构供给能量时在电极和基底的预定区域之间形成基本均匀的电场。 |
地址 |
美国密执安州 |