| 发明名称 |
GLUCONIC ACID CONTAINING PHOTORESIST CLEANING COMPOSITION FOR MULTI-METAL DEVICE PROCESSING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP2352812(A1) |
申请公布日期 |
2011.08.10 |
| 申请号 |
EP20090752566 |
申请日期 |
2009.10.22 |
| 申请人 |
AVANTOR PERFORMANCE MATERIALS, INC. |
发明人 |
INAOKA, SEIJI |
| 分类号 |
C11D3/37;C11D3/22;C11D3/382;C11D7/26;C11D7/32;C11D7/34;C11D7/50;C11D11/00;G03F7/42;H01L21/02 |
主分类号 |
C11D3/37 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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