| 发明名称 | 设有间隙状空间的装置和耦合到该装置的合成射流发生器 | ||
| 摘要 | 装置（1）设有两个壁部（3a；5a）的结构，其限定基本上封闭的间隙状空间（7），该间隙状空间含有气体介质。出于冷却目的，该装置还设有用于生成气体合成射流的合成射流发生器（9），其中该发生器流体耦合到该间隙状空间。 | ||
| 申请公布号 | CN102150485A | 申请公布日期 | 2011.08.10 |
| 申请号 | CN200980135587.4 | 申请日期 | 2009.09.07 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | S. E.卡迪克;G. A.吕滕;C. C. S.尼科尔;C. J. M.拉桑塞 |
| 分类号 | H05K7/20(2006.01)I;F21V29/02(2006.01)I | 主分类号 | H05K7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 谢建云;刘鹏 |
| 主权项 | 一种装置（1），设有‑ 两个壁部（3a；5a）的结构，其限定在所述壁部之间延伸并且含有气体介质的基本上封闭的间隙状空间（7），以及‑ 合成射流发生器（9），其用于生成气体合成射流，该发生器流体耦合到该间隙状空间。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||