| 发明名称 | 含氮杂环化合物及有害生物防除剂 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种含氮杂环化合物及有害生物防除剂。本发明提供式(I)表示的化合物、或其盐。(式中，X表示烷基等。Y表示烷基。Z各自独立地表示硝基等。n表示0～3的任一整数。A表示碳原子等，碳原子在未被Z取代时结合有氢原子。D表示氧原子等。W表示氢原子等。R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>各自独立地表示氢原子等。R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>也可以结合，与R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>之间的氮原子一起形成杂环。)<img file="dpa00001330011500011.GIF" wi="1776" he="492" /> | ||
| 申请公布号 | CN102149696A | 申请公布日期 | 2011.08.10 |
| 申请号 | CN200980136001.6 | 申请日期 | 2009.09.15 |
| 申请人 | 日本曹达株式会社 | 发明人 | 岩田淳;川口昌宏 |
| 分类号 | C07D261/04(2006.01)I;A01N43/80(2006.01)I;A01P7/02(2006.01)I;A01P7/04(2006.01)I;C07D413/04(2006.01)I;C07D413/06(2006.01)I;C07D413/10(2006.01)I | 主分类号 | C07D261/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 苗堃;金世煜 |
| 主权项 | 1.式(I)表示的化合物、或其盐，<img file="FPA00001330011600011.GIF" wi="1565" he="372" />式中，X表示烷基、链烯基、炔基、芳基或杂芳基；Y表示烷基；Z各自独立地表示硝基、羟基、巯基、卤素原子、N(R<sup>a</sup>)<sub>2</sub>所示的基团、烷基或氰基，所述式N(R<sup>a</sup>)<sub>2</sub>中，各R<sup>a</sup>各自独立地表示氢原子或烃基；n表示0～3的任一整数；A表示碳原子或氮原子，碳原子在未被Z取代时结合有氢原子；D表示氧原子、C(O)基、下式所示的基团或N(R<sup>c</sup>)所示的基团，<img file="FPA00001330011600012.GIF" wi="516" he="614" />该式中，R<sup>b1</sup>、R<sup>b2</sup>各自独立地表示氢原子或有机基团，n1表示1或2；所述式N(R<sup>c</sup>)中，R<sup>c</sup>表示氢原子或烃基；W表示氢原子、卤素原子、氰基、硝基、烷基、烷氧基、N(R<sup>d</sup>)<sub>2</sub>所示的基团、烷硫基、烷基亚磺酰基、烷基磺酰基或杂芳基，所述式N(R<sup>d</sup>)<sub>2</sub>中，各R<sup>d</sup>各自独立地表示氢原子或烃基；R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>各自独立地表示氢原子、酰基或烷氧羰基；R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>也可以结合，与R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>之间的氮原子一起形成杂环。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||