发明名称 | 一种去除开尔文通孔的蚀刻残余物的方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种去除开尔文通孔的蚀刻残余物的方法,属于半导体集成电路芯片制造工艺领域。本发明方法是在介质层蚀刻开尔文(Kelvin)通孔的制程结束后,在上部金属互连层形成之前,首先使用有机化学品ST250去除Kelvin通孔的蚀刻残余物;然后使用浓度合适的稀氢氟酸溶液去除Kelvin通孔的部分介质层等离子体损伤,以将Kelvin通孔内径修正到符合关键尺寸的标准。本发明方法可以彻底去除残留在Kelvin通孔内壁及其衬底和表面的残余物。本发明方法简单易行,极大地提高了Kelvin通孔处蚀刻残余物的去除能力。 | ||
申请公布号 | CN102148187A | 申请公布日期 | 2011.08.10 |
申请号 | CN201010110490.2 | 申请日期 | 2010.02.09 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 刘焕新 |
分类号 | H01L21/768(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/768(2006.01)I |
代理机构 | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人 | 董巍;顾珊 |
主权项 | 一种去除开尔文通孔的蚀刻残余物的方法,包括:第一步ST250处理阶段,其用有机化学品ST250溶液去除开尔文通孔的蚀刻残余物,所述有机化学品ST250溶液是用水稀释的原ST250溶液,原ST250溶液占所述有机化学品ST250溶液的体积百分比为58%‑62%,所述处理阶段的处理条件为:处理时间为60‑90秒,处理温度为38℃‑42℃;第二步稀氢氟酸溶液处理阶段,使用稀氢氟酸溶液去除开尔文通孔部分介质层的等离子体损伤,以修正开尔文通孔的关键尺寸,其中,所述稀氢氟酸溶液是用水将氢氟酸溶液稀释而成,所述氢氟酸溶液与水的稀释体积比为1∶250至1∶500,所述处理阶段的处理条件为:处理时间为20‑40秒,处理温度为室温。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |