| 发明名称 | 一种微影方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭露一种微影方法，包括：在一基板上提供一能量敏感光阻材料层；提供一待刻图案；及在该基板上进行一微影制程，其中该微影制程包括：将该能量敏感光阻材料曝光至一带电粒子束，以将该待刻图案转移至该能量敏感光阻材料；将该带电粒子束由关闭状态切换为散焦状态，其中该散焦状态用于补偿一反向散射能量，从而减小邻近效应。 | ||
| 申请公布号 | CN102147571A | 申请公布日期 | 2011.08.10 |
| 申请号 | CN201010287801.2 | 申请日期 | 2010.09.17 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 张世明;林世杰 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 陈红 |
| 主权项 | 一种微影方法，其特征在于，包括：在一基板上提供能量敏感光阻材料；提供待刻图案；在该基板上进行微影制程，其中该微影制程包括：将该能量敏感光阻材料曝光于一带电粒子束，以使该待刻图案移至该能量敏感光阻材料上；及将该带电粒子束由关闭状态切换为散焦状态，其中该散焦状态用于补偿反向散射能量，从而减小邻近效应。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号 | ||