发明名称 借助于预选中间体的高速薄膜沉积
摘要 一种薄膜材料在固定的或连续的基底上高速率沉积的方法和设备。该方法包括将预选的前体中间体输送至沉积室并且从中间体形成薄膜材料。中间体在沉积室外部形成并且包括诸如自由基这样的亚稳定的物类。中间体被预选为包括有助于低缺陷浓度的薄膜材料的形成的亚稳定的物类。通过形成低缺陷浓度的材料,沉积速率不受材料质量的影响,并且无先例的沉积速率被获得。在一个实施方式中,预选的前体中间体是SiH3。方法包括将预选的中间体与载气,优选与去活状态下的载气结合,其中载气引导预选的中间体的传输至用于沉积薄膜材料的基底。
申请公布号 CN102150236A 申请公布日期 2011.08.10
申请号 CN200980135810.5 申请日期 2009.09.10
申请人 奥维新斯基创新有限公司 发明人 S·奥维辛斯基
分类号 H01L21/20(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I 主分类号 H01L21/20(2006.01)I
代理机构 北京市铸成律师事务所 11313 代理人 刘博
主权项 一种形成薄膜材料的方法,包括:提供沉积室,输送第一中间体至所述沉积室,所述第一中间体包括第一亚稳定的物类,所述第一中间体在所述沉积室的外部形成;以及在所述沉积室中形成第一薄膜材料,所述薄膜材料包括由所述第一亚稳定的物类提供的元素。
地址 美国密西根州