发明名称 |
磁响应性极高吸附容量溶菌酶分子印迹纳米粒子制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种具有磁响应性和极高吸附容量的溶菌酶分子印迹纳米粒子的制备方法,它是以溶菌酶为模板分子,在适合的功能单体、交联剂、引发剂和其表面包被了SiO2并进行了巯基和丙烯酰氧基修饰的磁性纳米粒子存在的条件下进行模板聚合反应,在洗去模板分子后即得到具有磁响应性和极高吸附容量的溶菌酶分子印迹纳米粒子,本发明还提供了该纳米粒子的制备方法。本发明制备的溶菌酶分子印迹纳米粒子具有吸附容量高、制备简单、成本低廉、特异性吸附强、物理和化学稳定性高、可反复回收利用等特点。 |
申请公布号 |
CN102145279A |
申请公布日期 |
2011.08.10 |
申请号 |
CN201010111232.6 |
申请日期 |
2010.02.05 |
申请人 |
华中科技大学 |
发明人 |
梅素容;荆涛;周宜开;戴晴;郝巧玲 |
分类号 |
B01J20/286(2006.01)I;B01J20/26(2006.01)I;B01J20/32(2006.01)I;C12N9/36(2006.01)I |
主分类号 |
B01J20/286(2006.01)I |
代理机构 |
华中科技大学专利中心 42201 |
代理人 |
夏惠忠 |
主权项 |
一种具有磁响应性和极高吸附容量的溶菌酶分子印迹纳米粒子的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:采用表面活性剂对磁性纳米粒子进行分散处理;步骤二:在磁性纳米粒子表面包被二氧化硅SiO2薄膜;步骤三:对表面包被有二氧化硅SiO2薄膜的磁性纳米粒子同时进行巯基和丙烯酰氧基修饰;步骤四:在包被有二氧化硅SiO2薄膜并经巯基和丙烯酰氧基修饰的磁性纳米粒子表面生成溶菌酶分子印迹聚合物薄膜。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |