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发明名称 Radiation system, lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1605312(B1) 申请公布日期 2011.08.10
申请号 EP20050104550 申请日期 2005.05.27
申请人 ASML NETHERLANDS BV 发明人 DIERICHS, MARCEL MATHIJS THEODORE MARIE;EURLINGS, MARKUS FRANCISCUS ANTONIUS;VOORMA, HARM-JAN;FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR
分类号 G01B11/00;G03F7/20;G01B11/26;G02B5/08;H01L21/027 主分类号 G01B11/00
代理机构 代理人
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