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Eine Defekt-Reparaturvorrichtung für eine EUV-Maske umfasst: eine Gasfeld-Ionenquelle, die einen Wasserstoffionenstrahl erzeugt; ein ionenoptisches System, das den Wasserstoffionenstrahl rasterartig führt und projiziert, indem der Wasserstoffionenstrahl auf die EUV-Maske fokussiert wird; einen Probentisch, auf den die EUV-Maske zu legen ist; einen Detektor, der Sekundärladungsteilchen detektiert, die von der EUV-Maske erzeugt werden; und eine Abbildformeinheit, die ein Beobachtungsbild der EUV-Maske auf der Basis eines Ausgangsignals von dem Detektor formt.
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