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Procedimiento para la fabricación de una placa de impresión litográfica, que comprende las etapas de: (1) proporcionar un precursor de placa de impresión litográfica sensible al calor que comprende un soporte que tiene una superficie hidrofílica, o que está provista de una capa hidrofílica, un recubrimiento sensible al calor, (2) exponer dicho precursor a modo de imagen con radiación infrarroja o calor, y (3) desarrollar dicho precursor expuesto a modo de imagen con una solución alcalina de desarrollo, caracterizado porque un agente de inhibición de sedimentos está presente en dicho precursor o en dicha solución de desarrollo o en dicho precursor dicha solución de desarrollo, y en el que dicho agente de inhibición de sedimentos es un compuesto de triazaindolisina, que tiene una estructura de acuerdo con la fórmula I, **(Ver fórmula)**en donde R1 es hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, aralquilo, alquinilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, -OR4, -COOR5, -CO-NR6R7, -NR8-CO-R12 o -NR10R11; R2 es hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, un halógeno,-COOR5, -CO-NR6R7, -NR8-CO-R12 o -NR10R11; R3 es hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, -SR9, -COOR5,-CO-NR6R7, -NR8-CO-R12 o -NR10R11; R4 a R11 son seleccionados independientemente entre hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido; R12 se selecciona entre hidrógeno, un grupo alquilo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido -OR13 o -NR10R11; R13 se selecciona entre un alquilo grupo, alquenilo, alquinilo, aralquilo, alcarilo, arilo o heteroarilo opcionalmente sustituido, o cada uno de R1 y R2, R6 y R7, R8 y R12 o R10 y R11 representan los átomos necesarios para formar un anillo de 5 a 7 miembros.
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