发明名称 |
多波长发光二极管 |
摘要 |
本实用新型公开了一种多波长发光二极管,包括:复数个多量子阱发光单元;位于所述复数个多量子阱发光单元上方的p型掺杂的AlGaN层、p+掺杂的GaN层,透明导电膜以及p型欧姆接触电极;位于所述复数个多量子阱发光单元下方的n+掺杂的GaN层、n型掺杂的GaN层、GaN缓冲层、n型欧姆接触电极以及衬底;其中,所述复数个多量子阱发光单元所发出光线的波长沿光传播方向递减。本实用新型的多波长发光二极管能够发出多个波长的光线,混合后成为白光,从而提高能量转化效率并降低制造成本。 |
申请公布号 |
CN201918417U |
申请公布日期 |
2011.08.03 |
申请号 |
CN201020244508.3 |
申请日期 |
2010.07.02 |
申请人 |
泉州市金太阳电子科技有限公司 |
发明人 |
林朝晖 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种多波长发光二极管,其特征在于包括:复数个多量子阱发光单元;位于所述复数个多量子阱发光单元上方的p型掺杂的AlGaN层、位于所述p型掺杂的AlGaN层上方的p+掺杂的GaN层,位于所述p+掺杂的GaN层上方的透明导电膜以及位于所述透明导电膜上方的p型欧姆接触电极;位于所述复数个多量子阱发光单元下方的n+掺杂的GaN层、位于所述n+掺杂的GaN层下发的n型掺杂的GaN层、位于所述n型掺杂的GaN层下方的GaN缓冲层、与所述n+掺杂的GaN层接触的n型欧姆接触电极,以及位于所述GaN缓冲层下方的衬底;其中,所述复数个多量子阱发光单元所发出光线的波长沿光传播方向递减。 |
地址 |
362000 福建省泉州市鲤城区南环路江南高新科技园区金太阳电子科技有限公司 |