一种去除光阻层的组合物及其使用方法

摘要

本发明公开了一种新的用来去除光阻层的组合物及该组合物的使用方法。该组合物包括极性溶剂和氧化剂。本发明的组合物使用了毒性小、可燃性小的化学物质且减少了化学成分的用量，使得其与环境更加友善，减少化学废物处理的费用；该组合物的使用方法缩短了清洁工艺时间，将残留物除去得更彻底，最终提高导电性能。

主权项

一种去除光阻层的方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：1)将抛光垫置于抛光平台上，将晶片置于晶片固定夹内，在施加3psi压力下，使晶片与抛光垫接触；2)施加一含有极性溶剂、氧化剂、表面活性剂、抑制剂和载体的去除光阻层的组合物于抛光垫和与其接触的晶片上，以每分钟75转的转速旋转抛光垫和每分钟55转的转速旋转晶片使抛光垫摩擦晶片表面，直至彻底除去光阻层，其中：所述氧化剂为高锰酸钾，所述极性溶剂为丙酮，所述表面活性剂为非离子表面活性剂，所述抑制剂为三唑，所述载体为去离子水；所述氧化剂的浓度为8％，所述极性溶剂的浓度为5％，所述表面活性剂的浓度为5％，所述抑制剂的浓度为10％，所述载体的浓度为72％，以上百分比均指占整个组合物的质量百分比浓度。