清洗装置

摘要

本发明公开了一种用较少清洗液就能清洗干净有机硅光导体的清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽外侧设置有摆动气缸，清洗槽内设置有Z形摆动架，摆动架的一端从清洗槽中伸出并与清洗槽外侧的摆动气缸的活塞杆相连，位于清洗槽内的摆动架上设置有清洗座，清洗座上设置有若干个用于放置有机硅光导体的塔型插座，沿插座的轴向外表面上至少开设有一条泄水槽，塔型插座上方对应设置有导轨，导轨上滑动设置有一对滑块，滑块上分别设置有喷淋装置，清洗槽外侧还设置有两个移动气缸，两移动气缸位于清洗槽两侧，且分别与之对应的滑块相连，清洗槽的底部设置有排水管，排水管上设置有排水阀门。本发明适用于清洗硒鼓的场所。

主权项

清洗装置，包括清洗槽，其特征在于：所述清洗槽外侧设置有摆动气缸，清洗槽内设置有Z形摆动架，摆动架的一端从清洗槽中伸出并与清洗槽外侧的摆动气缸的活塞杆相连，位于清洗槽内的摆动架上设置有清洗座，清洗座上设置有若干个用于放置有机硅光导体的塔型插座，沿插座的轴向外表面上至少开设有一条泄水槽，塔型插座上方对应设置有导轨，导轨上滑动设置有一对滑块，滑块上分别设置有喷淋装置，清洗槽外侧还设置有两个移动气缸，两移动气缸位于清洗槽两侧，且分别与之对应的滑块相连，清洗槽的底部设置有排水管，排水管上设置有排水阀门。