发明名称 |
一种清洗膜分离设备的方法及装置 |
摘要 |
本发明公开了一种清洗膜分离设备的方法,包括以下环节:a)当膜过滤阻力与初始膜过滤阻力的比值小于1.2时,进行正向水力清洗;b)当膜过滤阻力与初始膜过滤阻力的比值大于等于1.2时,进行反向水力清洗;c)当膜过滤阻力与初始膜过滤阻力的比值大于等于2时,进行反向化学清洗;d)当膜过滤阻力与初始膜过滤阻力的比值大于等于3时,进行正向化学清洗。本发明所提供的清洗膜分离设备的方法与现有技术相比,环节a)、环节b)、环节c)和环节d)的使用频率依次降低,这样不但可以通过多种模式对不同类型的膜污染适时地予以彻底清除,而且可以优先发挥成本低、操作简单的清洗模式的清洗作用。 |
申请公布号 |
CN101284213B |
申请公布日期 |
2011.08.03 |
申请号 |
CN200810113983.4 |
申请日期 |
2008.05.30 |
申请人 |
北京汉青天朗水处理科技有限公司 |
发明人 |
孙友峰 |
分类号 |
B01D65/02(2006.01)I;B01D65/06(2006.01)I |
主分类号 |
B01D65/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
逯长明 |
主权项 |
一种清洗膜分离设备的方法,包括以下环节:a)当膜过滤阻力与初始膜过滤阻力的比值小于1.2时,进行正向水力清洗:使气体、液体或气液混合物以一定的流速冲刷过滤单元的外表面;b)当膜过滤阻力与初始膜过滤阻力的比值大于等于1.2时,进行反向水力清洗:使气体、液体或气液混合物以一定流量和持续时间沿过滤单元正常工作时过滤方向的反方向透过过滤单元;c)当膜过滤阻力与初始膜过滤阻力的比值大于等于2时,进行反向化学清洗:使含有化学药剂的清洗溶液以一定流量和持续时间沿过滤单元正常工作时过滤方向的反方向透过过滤单元;d)当膜过滤阻力与初始膜过滤阻力的比值大于等于3时,进行正向化学清洗:使含有化学药剂的清洗溶液浸渍过滤单元的外表面一段时间。 |
地址 |
100085 北京市海淀区上地信息产业基地科贸大厦209室 |