发明名称 用于评估样本中的光学深度的光学设备
摘要 本发明涉及用于评估被来自辐射源(10)的偏振辐射照射的样本(100)中的光学深度(D)的光学设备。第一和第二辐射波导的端部(30a’,30b’)被设置用于捕获从样本反射的辐射(25a,25b)。检测器(40)测量反射的辐射(25)的第一偏振(P_1)和第二偏振(P_2),以及分别在第一(30a)和第二(30b)辐射波导中的反射辐射(25a,25b)的第一和第二强度(I_1,I_2)。随后,处理装置(60)计算第一(f)和第二(g)光谱函数,这两个光谱函数(f,g)表示样本中的单散射事件。该处理装置(60)进一步被设置为计算第一(f)与第二(g)光谱函数之间的相关性(C)度量,以便评估所述单散射事件是否来源于样本内基本上相同的光学深度(D)。因此,第一和第二光谱函数之间的因果关系可以用于评估产生这两个光谱函数的所述单散射事件是否来自样本内的基本上相同的光学深度(D)。本发明特别有利于光学探查病人的上皮层。
申请公布号 CN101616627B 申请公布日期 2011.08.03
申请号 CN200880005548.8 申请日期 2008.02.18
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 B·H·W·亨德里克斯;A·T·M·范戈夫;H·周
分类号 A61B5/00(2006.01)I 主分类号 A61B5/00(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 刘鹏;刘红
主权项 一种用于评估关联的样本(100)中的光学深度(D)的光学设备,该设备包括:辐射源(10),其能够发射具有初始偏振(P_0)的辐射(20),第一(30a)和第二(30b)辐射波导,该第一辐射波导(30a)光学连接到辐射源以便向样本发射辐射(20),第一和第二辐射波导具有其各自的基本上彼此对齐的端部(30a’,30b’),这些端部进一步被设置用于捕获从样本反射的辐射(25a,25b),检测器(40),其光学连接到第一和第二辐射波导,该检测器被设置用于在光学子带内测量下列各项的指示:‑反射的辐射(25)的第一偏振(P_1),‑反射的辐射(25)的第二偏振(P_2),所述第二偏振(P_2)不同于第一偏振(P_1),以及‑分别在第一(30a)和第二(30b)辐射波导中的反射的辐射(25a,25b)的第一和第二强度(I_1,I_2),以及处理装置(60),其可操作地连接到检测器,该处理装置适于在所述光学子带内计算第一(f)和第二(g)光谱函数,这两个光谱函数(f,g)基本上指示样本中的单散射事件:‑第一光谱函数(f)是反射的辐射(25)的第一(P_1)偏振与反射的辐射(25)的第二(P_2)偏振之间的偏振差的度量,以及‑第二光谱函数(g)是所述反射的辐射的第一与第二强度(I_1,I_2)之间的强度差的度量,其中处理装置(60)进一步被设置为计算第一(f)与第二(g)光谱函数之间的相关性(C)度量,以便评估单散射事件是否来源于样本内基本上相同的光学深度(D)。
地址 荷兰艾恩德霍芬