发明名称 |
一种提高眼图交叉点稳定性的控制装置及方法 |
摘要 |
本发明公开了一种提高眼图交叉点稳定性的控制装置及方法,所述控制装置包括交叉点控制模块;所述交叉点控制模块包括电压设定单元和反馈控制单元;所述电压设定单元,用于设定参考电压;所述反馈控制单元,用于对电吸收调制激光器输出眼图的交叉点对应的交叉点电压进行反馈控制使交叉点电压与所述参考电压的差值在预设范围内。本发明通过对激光器交叉点电压的反馈控制,可以抑制电吸收调制激光器交叉点的漂移,改善出光眼图抖动性能,降低模块发送端的误码率,从而提升光收发合一模块的整体性能。 |
申请公布号 |
CN102143105A |
申请公布日期 |
2011.08.03 |
申请号 |
CN201110031364.2 |
申请日期 |
2011.01.28 |
申请人 |
中兴通讯股份有限公司 |
发明人 |
战永兴 |
分类号 |
H04L25/06(2006.01)I;H01S3/13(2006.01)I;H01S3/131(2006.01)I;H04B10/24(2006.01)I |
主分类号 |
H04L25/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
代理人 |
李健;龙洪 |
主权项 |
一种提高眼图交叉点稳定性的控制装置,其特征在于,所述控制装置包括交叉点控制模块;所述交叉点控制模块包括电压设定单元和反馈控制单元;所述电压设定单元,用于设定参考电压;所述反馈控制单元,用于对电吸收调制激光器输出眼图的交叉点对应的交叉点电压进行反馈控制使交叉点电压与所述参考电压的差值在预设范围内。 |
地址 |
518057 广东省深圳市南山区高新技术产业园科技南路中兴通讯大厦法务部 |