| 发明名称 | 用于化学气相沉积设备的喷头 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种用于化学气相沉积设备的喷头，所述用于化学气相沉积设备的喷头包括：气体供应管；具有一底板的喷头本体，所述喷头本体与所述气体供应管连通；所述底板上活动连接有多个用于喷洒气体的喷嘴，所述多个喷嘴与所述喷头本体连通。通过本实用新型提供的用于化学气相沉积设备的喷头，当所述喷嘴由于射频电源的作用，或者其他外力的作用变形时，可通过更换所述喷嘴以喷洒出流量和流速均匀的混合气体，从而在晶片表面沉积一层厚度均匀的薄膜，不再需要更换整个喷头，从而降低了生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN201915143U | 申请公布日期 | 2011.08.03 |
| 申请号 | CN201020674385.7 | 申请日期 | 2010.12.21 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 许亮 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种用于化学气相沉积设备的喷头，包括：气体供应管；具有一底板的喷头本体，所述喷头本体与所述气体供应管连通；其特征在于，所述底板上活动连接有多个用于喷洒气体的喷嘴，所述多个喷嘴与所述喷头本体连通。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||