衬底处理装置

摘要

衬底处理装置具有腔室、大致线性的处理模块阵列、衬底输送装置和驱动系统。所述腔室能够与外部气氛隔离开。各个处理模块阵列可连通地连接在腔室上，以容许在腔室和处理模块之间传递衬底。衬底输送装置定位在腔室中，并可移动地受到腔室的支撑。输送装置能够沿着由腔室限定的线性路径移动，用于在处理模块之间输送衬底。驱动系统连接在所述腔室上，用于驱动输送装置，并使其沿着所述线性路径移动。腔室包括可选数量的腔室模块，其顺序地对接在一起，以便限定腔室。各模块具有驱动系统的组成部分。

主权项

一种衬底处理装置，包括：能够与外部气氛形成密封的可密封腔室；大致线性的处理模块阵列，各处理模块可连通地连接在所述腔室上，从而容许在所述腔室和所述处理模块之间传递衬底；定位在所述腔室中、并可移动地受到所述腔室支撑的衬底输送装置，所述输送装置能够沿着由所述腔室限定的线性路径而移动，用于在所述处理模块之间输送衬底；和连接在所述腔室上的电动机部件，其用于驱动所述输送装置并使所述输送装置沿着所述线性路径移动；其中，所述腔室包括连续地彼此对接在一起以限定所述腔室的可选数量的腔室模块，各腔室模块具有所述电动机部件的组成部分，使得带有所述电动机部件的组成部分的各腔室模块能够作为一个单元与所述腔室相连接并且与所述腔室相移除。