| 发明名称 | 铜层处理 | ||
| 摘要 | 本发明包括用于使用硫等离子体处理铜且尤其铜层处理的装置、方法和系统。一个或一个以上实施例可包括形成铜硫化合物的方法，其是通过使铜与包括硫的等离子体气体反应并用水移除所述铜硫化合物的至少一部分来实施。 | ||
| 申请公布号 | CN102144282A | 申请公布日期 | 2011.08.03 |
| 申请号 | CN200980134552.9 | 申请日期 | 2009.08.17 |
| 申请人 | 美光科技公司 | 发明人 | 尼尔·R·吕格尔 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 宋献涛 |
| 主权项 | 一种处理铜的方法，其包含：通过使铜与包括硫的等离子体气体反应形成铜硫化合物；和用水移除所述铜硫化合物的至少一部分。 | ||
| 地址 | 美国爱达荷州 | ||