| 发明名称 | 化学气相沉积装置及其喷头 | ||
| 摘要 | 一种化学气相沉积装置及其喷头，其中喷头包括：第一子喷头和第二子喷头；所述第一子喷头的一侧具有第一进气口，第一子喷头的另一侧具有多个第一出气口；所述第二子喷头的一侧具有第二进气口，第二子喷头的另一侧具有多个第二出气口；所述第一子喷头嵌套在所述第二子喷头内壁且所述第一子喷头与所述第二子喷头能够相对于第一子喷头的中心轴方向移动。本发明提高了化学气相沉积的膜层均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN102140629A | 申请公布日期 | 2011.08.03 |
| 申请号 | CN201010105799.2 | 申请日期 | 2010.01.28 |
| 申请人 | 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司 | 发明人 | 卜维亮;李勇;曾明 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种化学气相沉积装置的喷头，其特征在于，包括：第一子喷头和第二子喷头；所述第一子喷头的一侧具有第一进气口，第一子喷头的另一侧具有多个第一出气口；所述第二子喷头的一侧具有第二进气口，第二子喷头的另一侧具有多个第二出气口；所述第一子喷头嵌套在所述第二子喷头内壁且所述第一子喷头与所述第二子喷头能够沿第一子喷头的中心轴方向上下移动。 | ||
| 地址 | 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区汉江路5号 | ||