制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法及其装置

摘要

本发明提供一种制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法及其装置，其是通过控制至少两道特定形状的同调光束，使其投射至一待曝光基材上以形成特定区域大小的干涉条纹。然后，再通过由多数次步进移动的方式控制待曝光基材或者是该两道特定形状的同调光束的位置，以于该待曝光基材上形成具有大面积的预定图案。通过本发明的方式可以缩短光学传播路径与曝光时间，进而减少微影制程缺陷的产生以及增加制程良率。

主权项

一种制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法，其特征在于包括下列步骤：(a)提供一待曝光基材以及用一整形发光单元提供至少两道特定形状的同调光束，其中该整形发光单元具有一光束产生器，其产生一光束；一光束整形器，其将该光束的强度分布均匀化，然后再扩大该均匀强度分布光束以形成一扩大光束，并将该扩大光束调制成整形光束；以及一分光单元，其将该整形光束分光以形成该至少两道特定形状的同调光束；(b)使该至少两道特定形状的同调光束，同时照射至该待曝光基材表面，于该待曝光基材表面形成一特定干涉图案区块；(c)以步进方式调整下一次曝光位置；以及(d)重复该步骤(b)至(c)多数次，使随后形成的干涉图案区块的一部分与前一次干涉图案区块的一部分相互衔接，以于该待曝光基材表面上形成有大面积的一预定图案。