发明名称 | 硅基板上的图案修复方法和硅基板上的图案修复装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种硅基板上的图案修复方法和硅基板上的图案修复装置,能够将在通过蚀刻形成于硅基板上的图案之间生长的异物除去,使该图案的形状恢复。该硅基板上的图案修复方法,具有将硅基板收容于腔室内,将硅基板加热到160℃以上的加热工序。 | ||
申请公布号 | CN102140638A | 申请公布日期 | 2011.08.03 |
申请号 | CN201110025366.0 | 申请日期 | 2011.01.19 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 西村荣一;田原慈;山下扶美子 |
分类号 | C23F1/12(2006.01)I;C23F1/08(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/12(2006.01)I |
代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
主权项 | 一种硅基板上的图案修复方法,将在通过蚀刻在硅基板上形成的图案之间生长的异物除去,使该图案的形状恢复,该硅基板上的图案修复方法的特征在于,具有:将所述硅基板收容于腔室内,将所述硅基板加热到160℃以上的加热工序。 | ||
地址 | 日本东京 |