发明名称 |
超声波H<sub>2</sub>传感器 |
摘要 |
本实用新型涉及超声波H2传感器,由二个超声波传感器、气室、传感器测控单元、供电电源接口、温度传感器组成,其特征在于:二个超声波传感器分别安装在气室的两端,气室的两端分别设有进气口及出气口,温度传感器安装在气室的中部的温度传感器安装孔内,传感器测控单元分别与供电电源接口、二个超声波传感器、温度传感器相连,且在传感器测控单元设有输入接口和输出接口。本实用新型通过采用超声波探测技术后,彻底消除了流量对H2传感器的影响,在温度恒定条件下,H2传感器准确度高,使用寿命长。 |
申请公布号 |
CN201917557U |
申请公布日期 |
2011.08.03 |
申请号 |
CN201020622014.4 |
申请日期 |
2010.11.23 |
申请人 |
武汉四方光电科技有限公司 |
发明人 |
刘志强;何涛;石平静;熊友辉 |
分类号 |
G01N29/024(2006.01)I |
主分类号 |
G01N29/024(2006.01)I |
代理机构 |
武汉开元知识产权代理有限公司 42104 |
代理人 |
唐正玉 |
主权项 |
超声波H2传感器,由二个超声波传感器、气室、传感器测控单元、供电电源接口、温度传感器组成,其特征在于:二个超声波传感器分别安装在气室的两端,气室的两端分别设有进气口及出气口,温度传感器安装在气室的中部的温度传感器安装孔内,传感器测控单元分别与供电电源接口、二个超声波传感器、温度传感器相连,且在传感器测控单元设有输入接口和输出接口。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市东湖开发区光谷创业街6号楼10层 |