发明名称 磁性记录媒体及其制造方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.08.01
申请号 TW096104733 申请日期 2007.02.09
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 福岛正人;坂脇彰;佐佐木保正
分类号 G11B5/62 主分类号 G11B5/62
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 一种磁性记录媒体的制造方法,包含如下步骤:于一非磁性基板的至少一侧上沉积一磁性层;及部分植入原子到该磁性层中,以将该磁性层部分去磁化,藉以形成非磁性部分,和被该非磁性部分所磁性分离的磁性记录图形。如申请专利范围第1项之磁性记录媒体的制造方法,其中,被磁性分离的该磁性记录图形,包含磁性记录轨和伺服信号图形。如申请专利范围第1项之磁性记录媒体的制造方法,其中,待被植入的原子系依磁性方式择自于由B、P、Si、F、N、H、C、In、Bi、Kr、Ar、Xe、W、As、Ge、Mo、Sn所构成的族群中之任何一个元素。如申请专利范围第1项之磁性记录媒体的制造方法,其中,待被植入的原子为Kr或Si。如申请专利范围第1项之磁性记录媒体的制造方法,更包含在植入原子之步骤前,先在该磁性层上形成一保护薄膜层的步骤。一种磁性记录媒体的制造方法,包含如下步骤:于一非磁性基板的至少一侧上沉积一含Co磁性层;及部分植入原子到该含Co磁性层中,以将该含Co磁性层部分去磁化,而使由X光绕射所决定的该含Co磁性层之一相关部份之Co(002)或Co(110)的峰值强度降低到1/2或更少;藉以形成非磁性部分,和被该非磁性部分所磁性分离的磁性记录图形。一种磁性记录媒体的制造方法,包含如下步骤:于一非磁性基板的至少一侧上沉积一磁性层;部分植入原子到该磁性层中,以将该磁性层部分去磁化,而使该磁性层之一相关部分非晶质化;藉此形成非磁性部分,和被该非磁性部分所磁性分离的磁性记录图形。一种磁性记录媒体,包含一非磁性基板、在该非磁性基板至少一侧上沉积的一磁性层、及被部分植入到该磁性层中以部分去磁化该磁性层的原子,藉此方式而形成非磁性部分、和被该非磁性部分所分离的一磁性记录图形。如申请专利范围第8项之磁性记录媒体,其中,该磁性记录图形为垂直的磁性记录图形。如申请专利范围第8项之磁性记录媒体,其中,该磁性记录媒体的表面粗度Ra满足:0.1nm≦Ra≦2.0nm。一种磁性记录媒体,包含一非磁性基板、在该非磁性基板至少一侧上沉积的一含Co磁性层、被部分植入到该含Co磁性层中以部分去磁化该含Co磁性层的原子,而使由X光绕射所决定的该含Co磁性层之一相关部份之Co(002)或Co(110)的峰值强度降低到1/2或更少;藉以形成非磁性部分,和被该非磁性部分所磁性分离的磁性记录图形。一种磁性记录媒体,包含一非磁性基板、在该非磁性基板至少一侧上沉积的一磁性层、被部分植入到该磁性层中以部分去磁化该磁性层的原子,而使该磁性层之一相关部分非晶质化;藉此形成非磁性部分,和被该非磁性部分所磁性分离的磁性记录图形。
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