| 主权项 |
一种真空吸附头，具备：吸附垫，用以抵接于吸附对象物之被吸附面来进行真空吸附；轴，用以将该吸附垫保持于一端部，并设有可对该吸附垫内进行气体之吸排气之吸排气孔；壳部，具有可限制该轴之移动范围而加以微动保持之筒状空间；及弹性支持部，在该壳部内，将该轴沿该壳部之轴方向及与该轴方向呈倾斜之方向微动自如地做弹性支持；该轴，具备在该壳部内之大致中间位置以凸缘状设置之高低差部；该壳部具备：筒状部，内侧具备用以将弹性支持部以变形自如的方式加以保持之空间；第1壳板，将圆筒状之一端部以保留第1开口之方式予以密封；及第2壳板，将圆筒状之另一端部以保留第2开口之方式予以密封；该弹性支持部具有在第1壳板与高低差部之间所保持之第1螺旋弹簧、以及在第2壳板与高低差部之间所保持之第2螺旋弹簧；该第1及第2开口之开口径较该轴之外径大，较该第1螺旋弹簧及该第2螺旋弹簧之外径小；该第1螺旋弹簧贯穿安装在该壳体内之轴上，被保持在该轴的高低差部与该第1壳板之间；该第2螺旋弹簧贯穿安装在该壳体内之轴上，被保持在该轴的高低差部与该第2壳板之间。如申请专利范围第1项之真空吸附头，其中，该吸附垫设于第2开口侧；在该吸附垫处于无负荷状态下，该第1弹簧之压缩力较该第2弹簧之压缩力来得大。如申请专利范围第1项之真空吸附头，其中，该吸附垫设有使用板状构件之真空吸附盘，该真空吸附盘系具备：吸附部，于其一面形成多数个独立之凸部与凹部；气密部，包围该吸附部、在该板状构件之外周位置形成环状；槽部，成为将该吸附部之气体予以排气之通路；及将该槽部之气体向外部排气之开口。如申请专利范围第3项之真空吸附头，其中，该吸附垫具有裙垫，该裙垫系以包围该真空吸附盘之方式形成，当该真空吸附盘接近吸附对象物至既定位置时，从该真空吸附盘之周边空间阻隔外部气体。如申请专利范围第1项之真空吸附头，其中，该吸附垫系以无凹凸之平坦树脂所构成。一种真空吸附装置，具备至少1个真空吸附头，将该真空吸附头抵接于吸附对象物之面来进行真空吸附；该真空吸附头具备：吸附垫，用以抵接于吸附对象物之被吸附面来进行真空吸附；轴，用以将该吸附垫保持于一端部，并设有可对该吸附垫内进行气体之吸排气之吸排气孔；壳部，具有可限制该轴之移动范围而加以微动保持之筒状空间；及弹性支持部，在该壳部内，将该轴沿该壳部之轴方向及与该轴方向呈倾斜之方向微动自如地做弹性支持；该轴，具备在该壳部内之大致中间位置以凸缘状设置之高低差部；该壳部具备：筒状部，内侧具备用以将弹性支持部以变形自如的方式加以保持之空间；第1壳板，将圆筒状之一端部以保留第1开口之方式予以密封；及第2壳板，将圆筒状之另一端部以保留第2开口之方式予以密封；该弹性支持部具有在第1壳板与高低差部之间所保持之第1螺旋弹簧、以及在第2壳板与高低差部之间所保持之第2螺旋弹簧；该第1及第2开口之开口径较该轴之外径大，较该第1螺旋弹簧及该第2螺旋弹簧之外径小；该第1螺旋弹簧贯穿安装在该壳体内之轴上，被保持在该轴的高低差部与该第1壳板之间；该第2螺旋弹簧贯穿安装在该壳体内之轴上，被保持在该轴的高低差部与该第2壳板之间。一种工作台，系将真空吸附头(具备：吸附垫，用以抵接于吸附对象物之被吸附面来进行真空吸附；轴，用以将该吸附垫保持于一端部，并设有可对该吸附垫内进行气体之吸排气之吸排气孔；壳部，具有可限制该轴之移动范围而加以微动保持之筒状空间；及弹性支持部，在该壳部内，将该轴沿该壳部之轴方向及与该轴方向呈倾斜之方向微动自如地做弹性支持)以其吸附垫朝上方之状态设置于底板上，将吸附对象物之吸附面抵接于该吸附垫来进行真空吸附者；该轴，具备在该壳部内之大致中间位置以凸缘状设置之高低差部；该壳部具备：筒状部，内侧具备用以将弹性支持部以变形自如的方式加以保持之空间；第1壳板，将圆筒状之一端部以保留第1开口之方式予以密封；及第2壳板，将圆筒状之另一端部以保留第2开口之方式予以密封；该弹性支持部具有在第1壳板与高低差部之间所保持之第1螺旋弹簧、以及在第2壳板与高低差部之间所保持之第2螺旋弹簧；该第1及第2开口之开口径较该轴之外径大，较该第1螺旋弹簧及该第2螺旋弹簧之外径小；该第1螺旋弹簧贯穿安装在该壳体内之轴上，被保持在该轴的高低差部与该第1壳板之间；该第2螺旋弹簧贯穿安装在该壳体内之轴上，被保持在该轴的高低差部与该第2壳板之间。如申请专利范围第7项之工作台，其中，进一步具有将该吸附对象物予以定位之定位机构。 |
