| 主权项 |
一种碟片基板输送机构，包括：复数导螺杆，每一导螺杆包括一以螺旋状方式提供之引导沟槽，该等引导沟槽被组构成支撑以一模具模制的碟片基板之外周边边缘，其中：该等导螺杆系轴向地旋转，以于一输送方向中输送该碟片基板；及每一引导沟槽包括一于该输送方向中在该引导沟槽的前面之前侧壁、一于该输送方向中在该引导沟槽的后面之后侧壁、与一基准面，该基准面系以此一使该引导沟槽在该输送方向中由该后面朝向该前面逐渐地变得更深之方式倾斜。如申请专利范围第1项之碟片基板输送机构，其中：该基准面具有100微米或更多之高差。一种碟片基板输送机构，包括：复数导螺杆，每一导螺杆包括一以螺旋状方式提供之引导沟槽，该等引导沟槽被组构成支撑以一模具模制的碟片基板之外周边边缘，其中：该等导螺杆系轴向地旋转，以于一输送方向中输送该碟片基板；及每一引导沟槽包括一于该输送方向中在该引导沟槽的前面之前侧壁、一于该输送方向中在该引导沟槽的后面之后侧壁、与一基准面，该基准面于该输送方向中在该基准面之前面边缘包括一凹入部分。如申请专利范围第3项之碟片基板输送机构，其中：该凹入部分具有100微米或更多之深度。一种碟片基板输送机构，包括：复数导螺杆，每一导螺杆包括一以螺旋状方式提供之引导沟槽，该等引导沟槽被组构成支撑以一模具模制的碟片基板之外周边边缘，其中：该等导螺杆系轴向地旋转，以于一输送方向中输送该碟片基板；及每一引导沟槽包括一于该输送方向中在该引导沟槽的前面之前侧壁、一于该输送方向中在该引导沟槽的后面之后侧壁、与一基准面，该基准面系以此一使该引导沟槽在该输送方向中由该前面朝向该后面逐渐地变得更深之方式倾斜。如申请专利范围第5项之碟片基板输送机构，其中：该引导沟槽的基准面相对于该导螺杆的一轴向呈一角度倾斜，该角度落在5度至65度之范围中。如申请专利范围第1、3及5项的任一项之碟片基板输送机构，其中：该前侧壁及关于该导螺杆之轴向正交的一平面间之角度，系比该后侧壁及关于该导螺杆之轴向正交的该平面间之角度较小。如申请专利范围第1、3及5项的任一项之碟片基板输送机构，其中：该引导沟槽的基准面具有一宽度，该宽度系大于或等于(该碟片基板之厚度)+10微米，及少于或等于(该碟片基板之厚度)+500微米。如申请专利范围第1、3及5项的任一项之碟片基板输送机构，另包括：一加热单元，其被组构成当输送该碟片基板时热处理该碟片基板。 |
