发明名称 电化学沈积装置
摘要
申请公布号 TWI346150 申请公布日期 2011.08.01
申请号 TW096105740 申请日期 2007.02.15
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 周淑金;林昭任
分类号 C25D17/00;C25D19/00 主分类号 C25D17/00
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种电化学沈积装置,适于通入1大气压以上的加压流体以进行一电化学反应,该电化学沈积装置包括:一第一腔室,为提供给该电化学反应进行反应,用以装载一电解质溶液以及一阳极;一第二腔室,该第二腔室与该第一腔室连接,为提供给该阴极进行脱脂处理、洗净处理或乾燥处理;一闸门,设置在该第一腔室与该第二腔室之间,用以使该第一腔室与该第二腔室连通或分隔;以及一移动装置,设置在该第二腔室上,用以使一阴极运送于该第一腔室与该第二腔室之间。如申请专利范围第1项所述之电化学沈积装置,更包括一搅拌器,设置在该第一腔室中,用以搅拌该电解质溶液。如申请专利范围第1项所述之电化学沈积装置,更包括一加热器,设置在该第一腔室中。如申请专利范围第1项所述之电化学沈积装置,其中该加压流体包括超临界流体或次临界流体。如申请专利范围第1项所述之电化学沈积装置,其中该加压流体的来源包括二氧化碳、甲烷、乙烷或三氟甲烷。如申请专利范围第1项所述之电化学沈积装置,其中该电化学反应包括电镀、电铸、电泳喷涂或无电解镀层。如申请专利范围第1项所述之电化学沈积装置,更包括一电解质溶液储存槽,用以存放电解质溶液。如申请专利范围第1项所述之电化学沈积装置,更包括一原料储存槽,用以存放加压流体的原料。如申请专利范围第1项所述之电化学沈积装置,更包括一废液储存槽,用以收集已使用过的电解质溶液。如申请专利范围第1项所述之电化学沈积装置,更包括一分离/回收装置,用以收集排放出的该加压流体,并进行分离与回收再利用。
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号