| 主权项 |
一种用以降低电力消耗的方法，用于一系统，该系统包含有一提供一供应电压至一雷射驱动器之电源供应及一自该雷射驱动器接收一驱动电流之雷射二极体，该方法包含：(a)监视一跨于该雷射二极体之电压降；以及(b)至少部分地根据该所监视之跨于该雷射二极体之电压降来调整该供应电压，其中当该所监视之跨于该雷射二极体之电压降增加时，该调整系包含提高该供应电压，当该所监视之跨于该雷射二极体之电压降减少时，该调整系包含降低该供应电压。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该步骤(a)包含利用一高阻抗滤波器以产生一可供监视跨于该雷射二极体之电压降的回馈路径。如申请专利范围第1项所述之方法，其中该步骤(a)包含对跨于该雷射二极体之电压降进行取样。一种用以降低电力消耗的方法，用于一系统，该系统包含有一提供一供应电压至一雷射驱动器之电源供应及一自该雷射驱动器接收一驱动电流之雷射二极体，该方法包含：(a)监视一跨于该雷射二极体之电压降；(b)至少根据该所监视之跨于该雷射二极体的电压降及一雷射驱动器净空(headroom)电压两者来决定所需供应电压，该雷射驱动器净空电压系至少为操作该雷射驱动器所必要之一最小额外电压；以及(c)调整该供应电压，以概略追踪该所需供应电压。如申请专利范围第4项所述之方法，其中于步骤(b)所决定之所需供应电压会实质上等于该所监视之电压降加上该雷射驱动器净空电压。如申请专利范围第5项所述之方法，其中该雷射驱动器净空电压系被当成一常数。如申请专利范围第5项所述之方法，其中该雷射驱动器净空电压会改变。如申请专利范围第5项所述之方法，其中该步骤(b)包含：决定在一时段上该所监视之跨于该雷射二极体之一尖峰电压降；以及藉由将该所监视之尖峰电压降增加至该雷射驱动器净空电压，决定所需供应电压。一种用以驱动一雷射二极体之雷射驱动器，包含：一取样器，用以对跨于该雷射二极体之电压降进行取样；一控制器，用以至少根据该雷射驱动器净空电压及由该取样器所产生的电压样本两者，决定所需供应电压资讯；其中该控制器亦将所需之供应电压资讯提供给一产生用以供电该雷射驱动器的真实供应电压之电源供应，或提供给另一关联于该电源供应的控制器。一种系统，包含：一雷射驱动器，用以驱动一雷射二极体；一取样器，用以对跨于该雷射二极体之电压降进行取样；以及一控制器，用以至少部分地根据由该取样器所产生的电压降样本来调整一用以供电给该雷射驱动器之供应电压其中当该电压降样本表示跨于该雷射二极体之电压降增加时，该控制器系提高该供应电压，当该电压降样本表示跨于该雷射二极体之电压降减少时，该控制器系降低该供应电压。一种系统，包含：一雷射驱动器，用以驱动一雷射二极体；一取样器，用以对跨于该雷射二极体之电压降进行取样；以及一控制器，用以至少根据一雷射驱动器净空电压及由该取样器所产生的电压降样本两者，调整一用以供电给该雷射驱动器之供应电压，以实质上将该雷射驱动器以及该雷射二极体所消耗之电力量降至最小。如申请专利范围第11项所述之系统，其中该雷射驱动器净空电压包含一预定估计值。如申请专利范围第11项所述之系统，其中该雷射驱动器净空电压系以即时方式调整。一种系统，包含：一雷射驱动器，用以驱动一雷射二极体；用以监视跨于该雷射二极体之电压降之装置；以及用以调整一供应电压之装置，该供应电压系用以供电给该雷射驱动器，该调整系至少部分地根据该所监视之跨于该雷射二极体之电压降；进一步包含一用以监视一雷射驱动器净空电压之装置。如申请专利范围第14项所述之系统，其中用以调整之装置系至少根据该所监视之电压降及所监视之雷射驱动器净空电压两者来调整该供应电压。一种系统，包含：一雷射驱动器，用以驱动一雷射二极体；以及一控制器，用以监视一跨于该雷射二极体之电压降以及至少部分地根据该所监视之电压降来决定所需供应电压；其中该控制器亦调整一用以供电给该雷射驱动器之供应电压，以追踪该所需供应电压。如申请专利范围第16项所述之系统，进一步包含一连接于该雷射二极体与该控制器之间的高阻抗滤波器，用以提供一可供该控制器监视跨于该雷射二极体之电压降的回馈路径。如申请专利范围第16项所述之系统，其中该控制器亦至少部分地根据一雷射驱动器净空电压来决定该所需供应电压，其中该雷射驱动器净空电压系至少为操作该雷射驱动器所必要之一最小额外电压。如申请专利范围第18项所述之系统，其中该雷射驱动器净空电压系被当成一常数。如申请专利范围第18项所述之系统，其中该雷射驱动器净空电压会改变。一种用以降低电力消耗的方法，用于一系统，该系统包含有一提供一供应电压至一雷射驱动器之电源供应及一自该雷射驱动器接收一驱动电流之雷射二极体，该方法包含：(a)监视一跨于该雷射二极体之电压降；(b)至少部分地根据该所监视之跨于该雷射二极体之电压降来决定欲提供给雷射驱动器之所需供应电压；以及(c)调整该供应电压，以大致追踪该所需供应电压。如申请专利范围第23项所述之方法，其中该步骤(b)包括：决定所监视之跨于该雷射二极体之峰值电压降；以及藉由增加所监视之峰值电压降给雷射驱动器净空电压，决定该所需供应电压。如申请专利范围第10项所述之系统，其中该控制器系于一时间期间决定所监视之跨于该雷射二极体之峰值电压降，以及藉由增加所监视之峰值电压降给该雷射驱动器净空电压，决定该所需供应电压。 |
