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一种常温型核凝成长湿式静电集尘装置，用以净化一待处理废气，包括：一核凝成长腔，包括一第一腔室、一废气入口、一连接口以及一喷雾器，该废气入口由该第一腔室向外部延伸，而该喷雾器设于该第一腔室中；一界面活性剂水溶液，储存于该第一腔室中；以及一静电除尘腔，包括一第二腔室以及一气体出口，该第二腔室与该连接口连接，而该气体出口由该第二腔室向外埠延伸。如申请专利范围第1项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该静电除尘腔更包括一洁净水进流通道以及一废水流出通道，该洁净水进流通道设于该静电除尘腔之上侧，而该废水流出通道设于该静电除尘腔之底侧。如申请专利范围第2项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该静电除尘腔更包括一洁净水储存槽以及一废水收集槽，该洁净水储存槽与该洁净水进流通道连接，而该废水收集槽与该废水流出通道连接。如申请专利范围第3项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该洁净水储存槽更包括一导角，该导角位于该洁净水储存槽与该第二腔室连接处。如申请专利范围第1项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该静电除尘腔之二侧分别包括一多孔性电极板以及一放电电极，该放电电极设于该静电除尘腔上，位于该静电除尘腔一侧，并且与该放电电极不同侧之该多孔性电极板上之以接地导通，而位于该静电除尘腔另一侧之该多孔性电极板上亦以接地导通。如申请专利范围第5项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该多孔性电极板系为一粗糙面。如申请专利范围第5项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该多孔性电极板系为一亲水性表面。如申请专利范围第5项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该静电除尘腔之二侧更包括一套管，该套管外侧包括一螺纹结构，该套管用以装设该放电电极，并且藉由该螺纹结构与该静电除尘腔之一腔壁固定。如申请专利范围第8项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该静电除尘腔之该腔壁包括一装设孔，该装设孔具有一螺纹结构以固定该套管。如申请专利范围第8项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该套管与该放电电极之间填入一乾净空气。如申请专利范围第8项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该套管与该放电电极之间填入一氮气。如申请专利范围第1项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其更包括一超音波装置，设于该第一腔室中。如申请专利范围第1项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该待处理废气沿一气流方向通过该静电除尘腔之该第二腔室，该放电电极之延伸方向系与该气流方向垂直。如申请专利范围第1项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该界面活性剂水溶液系由一界面活性剂与一水混合而成，该界面活性剂包括一阴离子界活性剂、一阳离子界面活性剂、一两性界面活性剂或其混合物，而该阴离子界面活性剂包括十六烷基硫酸钠(sodium dodecyl sulphate)、月桂基硫酸钠(sodium lauryl sulfate)等，该阳离子界面活性剂包括溴化十六烷基三甲铵(cetyltrimethyl ammonium bromide)、十六烷基砒啶氯(cetyltpyridinium chloride)，该两性界面活性剂包括十二烷基胺基乙基肝胺酸(dodecyl aminoethyl glycine)、油酸醯胺(oleic acid amide)等。如申请专利范围第14项所述之常温型核凝成长湿式静电集尘装置，其中该界面活性剂水溶液之浓度范围为0.0000001~0.01M。 |
