| 主权项 |
一种光学薄膜之制法，其特征系含有至少二层电离辐射硬化层于透明基材上，该方法包含有：步骤1：使用电离辐射照射层A，其中该层A包含在感光波长范围的较长波长端具有不同吸收端部的二种或多种聚合起始剂，该电离辐射具有使至少一种聚合起始剂(a)实质上并不感光、且至少一种聚合起始剂(b)实质上会感光的波长；以及步骤2：在步骤1之后将含有至少一种聚合起始剂(c)的层B用涂布液涂敷于层A上，并使用具有聚合起始剂(a)及(c)皆感光之波长的电离辐射来照射层B用涂布液。如申请专利范围第1项之光学薄膜之制法，其中步骤1与2的电离辐射照射系于3体积%或以下之氧浓度下进行。如申请专利范围第1或2项之光学薄膜之制法，其中步骤2的电离辐射照射系于3体积%或以下之氧浓度下及60℃或以上之薄膜表面温度下进行。如申请专利范围第1或2项之光学薄膜之制法，其中步骤2的电离辐射照射系于3体积%或以下之氧浓度下进行，并于3体积%或以下之氧浓度下同时或连续进行加热。如申请专利范围第1或2项之光学薄膜之制法，该光学薄膜为含有至少一层低折射层的抗反射膜，其中层B为该至少一层低折射层之一。一种光学薄膜，其特征系可由如申请专利范围第1至5项中任一项之制法而获得。一种抗反射膜，其特征系为如申请专利范围第6项之光学薄膜。一种偏光板，其特征系含有二片保护膜之偏光板，其中该二片保护膜之一为如申请专利范围第7项之抗反射膜。一种影像显示装置，其特征系包含作为显示器最外表面的如申请专利范围第7项之抗反射膜或如申请专利范围第8项之偏光板。 |
