| 主权项 |
一种耐损伤性等优异之熔射皮膜被覆构件，其特征为，基材表面系以蒙瑟尔色标记为未满N-9.0之无色彩或蒙瑟尔色标记为未满V-9.0之有色彩之氧局部性消失而以Al2O3-x所示之Al2O3所构成之带色熔射皮膜予以被覆。如申请专利范围第1项之耐损伤性等优异之熔射皮膜被覆构件，其中，于基材表面与前述带色熔射皮膜之间，设置金属．合金或陶金的熔射皮膜所构成之衬底层。如申请专利范围第1或2项之耐损伤性等优异之熔射皮膜被覆构件，其中，前述带色熔射皮膜为经由于低氧分压下之照射输出：0.1~8kW、照射速度：1~30mm/s之电子束照射处理或雷射输出：0.1~10kW、照射速度：5~1000mm/s之雷射束照射处理，令熔射粉末材料之固有色白色所具有之亮度降低，或改变色相、彩度者，且仅在表面具有网孔状小裂痕。如申请专利范围第1或2项之耐损伤性等优异之熔射皮膜被覆构件，其中，前述带色熔射皮膜为经由Al2O3熔射粒子的堆积，作成50~2000μm厚。如申请专利范围第1或2项之耐损伤性等优异之熔射皮膜被覆构件，其中，前述带色熔射皮膜之由表面至未满50μm为止范围之部分为经由电子束照射或雷射束照射，再熔融后予以凝固之由γ-Al2O3变态至α-Al2O3之层。如申请专利范围第2项之耐损伤性等优异之熔射皮膜被覆构件，其中，上述衬底层为由Ni及其合金、Mo及其合金、Ti及其合金、Al及其合金、Mg合金中选出之任何一种以上之金属或合金，或此些金属．合金与陶瓷所构成之陶金形成50~500μm厚的熔射皮膜。一种耐损伤性等优异之熔射皮膜被覆构件之制造方法，其特征为，对基材表面直接、或对此基材表面所形成之衬底层表面，将具有白色固有色之Al2O3熔射粉末材料熔射，其次，将此熔射所得的白色之Al2O3熔射皮膜的表面经由于低氧环境下，照射输出：0.1~8kW、照射速度：1~30mm/s之电子束照射或雷射输出：0.1~10kW、照射速度：5~1000mm/s之雷射束照射，令该熔射皮膜表面之颜色变化成蒙瑟尔色标记为未满N-9.0之无色彩、或蒙瑟尔色标记为未满V-9.0之有色彩，并且使氧局部性消失而作成由Al2O3-x所构成之皮膜。如申请专利范围第7项之耐损伤性等优异之熔射皮膜被覆构件之制造方法，其中，经由前述电子束照射处理或雷射束照射处理，令白色之Al2O3熔射皮膜之表面至未满50μm之部分，变化成蒙瑟尔色标记为未满N-9.0之无色彩或蒙瑟尔色标记为未满V-9.0之有色彩，并且使其从γ-Al2O3变态至α-Al2O3，且仅使其在表面产生网孔状小裂痕。 |
