| 主权项 |
一种膜状或板状的透过型绕射格子，该绕射格子具有入射光所入射的入射面和入射光可透过而射出的射出面，该入射面中互相平行的断面具有成锯齿状的微细的格子，该绕射格子中由一方入射至该绕射格子中的光的CIE色座标的x＝0.310，y＝0.316所在的白色光入射时，射出光的CIE色座标的x是0.31≦x≦0.37且色座标y是0.3≦y≦0.42，由斜方向所射出的白色光的分光受到抑制而转向垂直方向中射出，具有一种较入射光的角度变化更小的射出光的角度变化所造成的聚光性，以及一方的斜面的法线和膜或板的上面的法线所形成的角度αF是70度以上89.5度以下，另一方的斜面的法线和膜或板的上面的法线所形成的角度αB相对于入射光和膜或板的上面的法线所形成的角度θi而言具有θi/2.69－5≦78－αB≦θi/2.69＋5的关系。如申请专利范围第1项所述之膜状或板状的透过型绕射格子，其中αF是73度以上81度以下。如申请专利范围第1项所述之膜状或板状的透过型绕射格子，其中间距是10微米以下。如申请专利范围第3项所述之膜状或板状的透过型绕射格子，其中间距是1微米以上5微米以下。如申请专利范围第1至4项中任一项所述之膜状或板状的透过型绕射格子，其中所具有的格子断面形状是近似成N(N＝4、5、6、7、8、...)位准的阶段状。如申请专利范围第1至4项中任一项所述之膜状或板状的透过型绕射格子，其中格子沟形成圆弧状。如申请专利范围第1至4项中任一项所述之膜状或板状的透过型绕射格子，其中m1、m2＝1、2、3...时，其具有平均周期d是m1×(6.0±2.0)微米，平均深度h是m2×(5.0±1.0)微米的锯齿形状或该锯齿形状以N(N＝4、5、6、7、8、...)位准来近似成表面形状。如申请专利范围第1至4项中任一项所述之膜状或板状的透过型绕射格子，其中具有偏光分离，色分离或反射防止功能的膜邻接于透过型绕射格子而配置着，或位于全息照相光学元件的表面上或里面中。如申请专利范围第8项所述之膜状或板状的透过型绕射格子，其中藉由具有周期0.6微米以下，深度0.5微米以下的浮雕形状之格子以施加上述之偏光分离，色分离或反射防止功能。一种面光源装置，其特征是第1至4项中任一项所述的透过型绕射格子配置在面光源的光射出面上。如申请专利范围第10项所述之面光源装置，其中未配置该透过型绕射格子时，相对于面光源的光射出面的法线方向而言光是由20度至70度的范围中射出，在配置该透过型绕射格子和全息照相光学元件时，由面光源而来的全部的射出光的60%以上是在对该面光源的光射出面的法线方向成－10度至＋10度的角度范围中射出。如申请专利范围第10项所述之面光源装置，其中更施加全息照相光学元件且使用扩散体。如申请专利范围第12项所述之面光源装置，其中具有全息照相扩散体，该扩散体使入射光限定在空间内的特定角度范围内而扩散。如申请专利范围第13项所述之面光源装置，其中全息照相扩散体是在导光板的光射出面上一体成形。如申请专利范围第10项所述之面光源装置，其中全息照相光学元件的光射出面上配置反射防止膜。如申请专利范围第10项所述之面光源装置，其中同时配置着以偏光或波长选择作为目的之膜。如申请专利范围第10项所述之面光源装置，其中邻接于导光板的一侧端面而配置着光源的面光源中，导光板的里面形成一种大约与传送至板中的光的方向相垂直的多个沟。 |
