| 主权项 |
一种基板上之曝光光阻材料的显影设备，包含：第一近接头，用以在基板上形成一光阻显影液之显影弯月面，该显影弯月面被形成于该第一近接头之底部与该基板之间，其中该第一近接头用以在该第一近接头与该显影弯月面横越该基板上之后，在该基板上留下该光阻显影液之一薄膜；第二近接头，用以在该基板上形成一冲洗弯月面，并自该基板移除该冲洗弯月面，该第二近接头系定位成沿着该第一与该第二近接头横越该基板之方向而跟随于该第一近接头之后，使得该光阻显影液之该薄膜连同着该冲洗弯月面而从该基板上移除；及一近接头定位装置，用以可调式地控制该第一与该第二近接头之间的分隔距离，以便控制该光阻显影液之该薄膜在该基板上之停留时间。如申请专利范围第1项之基板上之曝光光阻材料的显影设备，更包含：一输送装置，用以在该第一与该第二近接头下方传送该基板。如申请专利范围第1项之基板上之曝光光阻材料的显影设备，其中该第一近接头包含一光阻显影液输送通道与一真空通道，以支援在该基板上之该光阻显影液之该弯月面的定界与限制。如申请专利范围第1项之基板上之曝光光阻材料的显影设备，其中该第二近接头包含一冲洗流体输送通道、一真空通道、及一乾燥流体输送通道，以支援该基板之冲洗与乾燥。一种基板上之曝光光阻材料的显影系统，包含：第一近接头，用以在该基板上形成光阻显影液之显影弯月面，其中该第一近接头用以在该第一近接头与该显影弯月面横越该基板上之后，在该基板上留下该光阻显影液之一薄膜；第二近接头，用来将该光阻显影液之该薄膜从该基板上移除，且冲洗与乾燥该基板，该第二近接头经定位成沿着该第一与该第二近接头横越该基板之方向而跟随于该第一近接头之后。一近接头定位装置，用来可调式地控制该第一与该第二近接头之间的分隔距离，其中该第一与该第二近接头相对于该基板之分隔距离和横越速度决定该光阻显影液之该薄膜在该基板上之停留时间；及一近接头定位装置控制器，用来控制该第一与第二近接头之间的分隔距离，以在该基板上建立一期望光阻显影液停留时间。如申请专利范围第5项之基板上之曝光光阻材料的显影系统，更包含：一基板检验装置，用以在该第一与该第二近接头下方横越该基板后，将该基板之状况特征化。一计算系统，用以接收来自该基板检验装置的特征化资料。如申请专利范围第6项之基板上之曝光光阻材料之显影系统，其中该计算系统系用来提供关于欲维持于该第一与该第二近接头之间的分隔距离之指令给该近接头定位装置控制器，该指令系基于由该基板检验装置所接收的该特征化资料，该近接头定位装置控制器系用来自动地调整该近接头定位装置，以达到由该计算系统所指示的该第一与该第二近接头之间的该分隔距离。如申请专利范围第5项之基板上之曝光光阻材料的显影系统，更包含：一光阻显影液输送控制器，用以基于由该计算系统所接收的指令而调节该光阻显影液至该第一近接头之流速，由该计算系统所接收之该指令系基于由该基板检验装置所接收的该特征化资料。如申请专利范围第5项之基板上之曝光光阻材料的显影系统，更包含：一冲洗流体输送控制器，用以基于来自该计算系统所接收的指令而调节该冲洗流体至该第二近接头之流速，由该计算系统所接收之该指令系基于由该基板检验装置所接收的该特征化资料。一种基板上之光阻显影液停留时间的控制方法，包含：于该基板上形成光阻显影液之弯月面；使光阻显影液之该形成弯月面横越基板，以便在该基板上留下该光阻显影液之一薄膜；于该基板上形成冲洗流体之弯月面；使该冲洗流体之该形成弯月面，以跟随于该光阻显影液之该弯月面之后的方式，横越整个该基板；及控制该冲洗流体之该弯月面与该光阻显影液之该弯月面之间的分隔距离，其中控制该分隔距离即能够控制该光阻显影液在该基板上之停留时间。如申请专利范围第10项之基板上之光阻显影液停留时间的控制方法，其中该光阻显影液之该弯月面系用来覆盖一区域，该区域具有之长度沿第一方向至少等于该基板之直径且沿第二方向小于该第一方向之该长度，该第二方向系垂直于该第一方向，该光阻显影液之该形成之弯月面系以与该第二方向一致的线性方式横越该基板。如申请专利范围第10项之基板上之光阻显影液停留时间的控制方法，更包含：控制光阻显影液之该形成之弯月面与该基板之间的相对速度。如申请专利范围第10项之基板上之光阻显影液停留时间的控制方法，更包含：在该冲洗流体之该弯月面横越该基板之部分后，立即将一乾燥流体施加于该基板之该部分上。如申请专利范围第10项之基板上之光阻显影液停留时间的控制方法，更包含：在该光阻显影液之该弯月面横越该基板后，评估该基板之结果状况；及基于该基板之该评估状况，调整该基板上之该光阻显影液之该停留时间的控制，以改善位于该光阻显影液之该弯月面下方之后续待被横越之基板的结果状况。 |
