发明名称 洗濯系统
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.08.01
申请号 TW097115663 申请日期 2008.04.29
申请人 深超光电(深圳)有限公司 中国 发明人 黄宗彦;袁渊杰
分类号 B08B11/04;G02F1/13 主分类号 B08B11/04
代理机构 代理人 林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1
主权项 一种洗濯系统,包括:一第一清洗设备,清洗一第一基板,该第一清洗设备系包含复数清洗段,该第一清洗设备中最后一清洗段的用水系由厂务端提供净水清洗;一第一回收设备,与该第一清洗设备连接,蒐集最后一清洗段清洗后之回收水,供给前一清洗段清洗该第一基板;一厂务设备,与该第一清洗设备的第一清洗段出水口连接,可蒐集第一清洗设备的第一清洗段产生的回收水;一第二清洗设备,清洗一第二基板,该第二清洗设备系包含复数清洗段,最后一清洗段的用水系由厂务端提供净水清洗;以及一第二回收设备,与该第二清洗设备及该厂务设备连接,蒐集该第二清洗设备中最后一清洗段清洗后之回收水,并与厂务设备中的回收水混合后,供给前一清洗段清洗该第二基板。如申请专利范围第1项所述之洗濯系统,其中该第二清洗设备的倒数第二清洗段,系利用厂务设备中的净水清洗该第二基板。如申请专利范围第1项所述之洗濯系统,其中该第二清洗设备的最后一清洗段所使用的净水,系利用一间歇性脉冲洒水装置清洗该第二基板。如申请专利范围第1项所述之洗濯系统,其中该第二清洗设备的第一清洗段的出水口,系连接至一废水区。如申请专利范围第1项所述之洗濯系统,其中该第一清洗设备系一清洗机。如申请专利范围第1项所述之洗濯系统,其中该第二清洗设备系位于显影设备之内。如申请专利范围第1项所述之洗濯系统,其中该第一回收设备系利用过滤器处理蒐集来之该等回收水。如申请专利范围第1项所述之洗濯系统,其中该第二回收设备系利用过滤器处理蒐集来之该等回收水。如申请专利范围第1项所述之洗濯系统,其中该第一基板系一玻璃基板。如申请专利范围第1项所述之洗濯系统,其中该第二基板系一彩色滤光片基板。
地址 中国