PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND BASE,申请号KR20117012139-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND BASE
摘要
申请公布号	KR20110086842(A)	申请公布日期	2011.08.01
申请号	KR20117012139	申请日期	2009.11.02
申请人	TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.	发明人	TATENO ISAO;OHUCHI YASUHIDE;SHIOTA DAI;KONDO MITSURU
分类号	G03F7/027;G02B5/20;G02F1/1335;G03F7/031	主分类号	G03F7/027
代理机构		代理人
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