PROCEDE DE RECUIT D'UNE STRUCTURE

摘要

L'invention concerne un procédé de recuit d'une structure comprenant au moins une plaque, le procédé de recuit comprenant une première étape de recuit de la structure sous atmosphère oxydante de manière à former une couche d'oxyde (310) sur au moins une partie de sa surface exposée, la structure étant en contact avec un support (312) dans une première position. Le procédé comprend en outre une étape de déplacement de la structure sur le support dans une seconde position dans laquelle la ou les zones de contact (314) entre la structure et le support lors de la première étape de recuit sont exposées et une deuxième étape de recuit de la structure dans la deuxième position sous atmosphère oxydante.