| 摘要 |
L'invention concerne un moule pour la lithographie par nano-impression, ainsi que ces procédés de réalisation. Ce moule comporte une face qui comprend n zone (s) structurée ( s ) avec des motifs de taille micrométrique ou nanométrique, n étant un nombre entier supérieur ou égal à 1. Cette face structurée appartient à une première couche qui est supportée par une seconde couche, la première couche étant en un matériau rigide et la seconde couche étant en un matériau souple. Ce moule peut en outre comprendre n couches intercalaires disposées entre la première couche et la seconde couche, n étant un nombre entier supérieur ou égal à 1, et dans lequel le module d'Young de la seconde couche est inférieur au module d'Young de la nième couche intercalaire adjacente à la seconde couche, et si n est supérieur à 1, le module d'Young de la (i) ième couche intercalaire est supérieur au module d'Young de la (i + 1) ième couche intercalaire, avec i = 1 à (n-1 ).
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