发明名称 | 半导体晶片研磨用弹性膜 | ||
摘要 | 1.该外观设计产品的名称:半导体晶片研磨用弹性膜,也称作膜片;2.该半导体晶片研磨用弹性膜的用途:在半导体等的制造中的晶片研磨工序中,安装在研磨装置的基板保持环内侧,从装置侧向本物品的背面侧供给空气等气体,使膜面朝正面侧膨胀,将配置于正面侧的晶片的一面向研磨垫推压,此外,通过小孔进行真空吸引而保持晶片;3.该半导体晶片研磨用弹性膜的设计要点:请参考各个视图所示的形状;4.最能表明设计要点的图片或者照片:设计1的B部放大图;5.本申请包含同一产品“半导体晶片研磨用弹性膜”的3项相似外观设计,其中设计1为基本设计;6.在各设计中,由于仰视图与俯视图对称,且左视图与右视图对称,因此省略仰视图和左视图。 | ||
申请公布号 | CN301625514S | 申请公布日期 | 2011.07.27 |
申请号 | CN201130019361.8 | 申请日期 | 2011.01.26 |
申请人 | 株式会社荏原制作所 | 发明人 | 福岛诚;安田穗积;锅谷治 |
分类号 | 15-09 | 主分类号 | 15-09 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 黄剑锋 |
主权项 | |||
地址 | 日本东京 |