| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有二氧化硅溶胶颗粒、有机羧酸和/或有机膦酸类化合物、硝酸钾和水。本发明为满足用于抛光氧化物介电质的化学机械抛光液的要求，提供了一种氧化物介电质去除速率高的化学机械抛光液。 | ||
| 申请公布号 | CN102137904A | 申请公布日期 | 2011.07.27 |
| 申请号 | CN200980135005.2 | 申请日期 | 2009.09.04 |
| 申请人 | 安集微电子科技(上海)有限公司 | 发明人 | 宋伟红;姚颖 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | PCT国内申请，权利要求书已公开。 | ||
| 地址 | 201201 中国上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层 | ||